판매용 중고 VISTEC LWM9000 #293589506

VISTEC LWM9000 (VISTEC LWM9000) 은 생산 환경과 실험실 환경에서 포토마스크 또는 대형 웨이퍼를 자동으로 분석하도록 설계된 포괄적인 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. LWM9000 마스크 및 웨이퍼 검사 시스템은 혁신적인 광학 헤드 설계 (Optical Head Design) 를 통해 최대 0.35 미크론 (Micron) 의 해상도를 제공할 수 있어 중요한 기능에 대한 자세한 분석 및 측정이 가능합니다. 이 장치는 마스크 및 웨이퍼 서피스에서 결함, 왜곡 및 기타 이상을 식별하기위한 고급 이미지 처리 (advanced imaging) 기술을 갖추고 있습니다. VISTEC LWM9000에는 세 가지 광학 센서 (CD-SEM (스캐닝 전자 현미경), CD-AFM (원자력 현미경) 및 계층 적 단일 원자 측정) 이 장착되어 있으며, 이는 마스크와 웨이퍼 패턴을 높은 정확도로 평가할 수 있습니다. CD-SEM 이미징의 경우, 장치는 0.25 ~ 0.35 미크론 범위의 3 가지 배율로 이미지를 얻을 수 있습니다. CD-AFM 기능은 박막, 도체 구조 및 반도체 층을 빠르고 정확하게 측정합니다. 계층 적 단일 원자 도량형 기능을 사용하면 90% 이상의 정확도로 구조에서 가능한 가장 작은 구조를 감지 할 수 있습니다. LWM9000은 확장 가능한 사용자 정의 photomask 양식을 제공하며, 직관적인 그래픽 사용자 인터페이스를 포함합니다. 이를 통해 고객별 시뮬레이션 및 마스크 레이아웃 데이터를 빠르고 정확하게 측정하고 통합할 수 있습니다. 또한 자동 단계 제어 (Automated Stage Control) 기능을 통해 포커스 (Focus) 포지셔닝을 신속하게 수행하여 대규모 또는 분할된 데이터 세트를 빠르고 효율적으로 분석할 수 있습니다. 자동 동작 다용도 (Automatic Motion Versicility) 기능을 통해 마스크 또는 웨이퍼 (Wafer), 심지어 평면이나 여러 평면에 걸쳐 여러 포지셔닝 및 연속 스캐닝을 수행할 수 있습니다. VISTEC LWM9000은 사용자와 개발자 모두를 위해 강력하면서도 사용하기 쉬운 소프트웨어를 제공합니다. 이 소프트웨어는 운영 및 실험실 검사를 모두 수행할 수 있는 다용도/사용자 친화적 환경을 제공하며, 사용자는 시스템을 사용자 정의하고, 자동 정렬 검사/인수를 실행할 수 있습니다. 또한 전문가 주석 (annotation), 패치 분석 (patch analysis), 고급 스크립트 명령 및 배치 처리 기능을 제공하여 효율적이고 정확한 작업을 제공합니다. 또한, 디바이스에는 마스크 및 웨이퍼 데이터를 저장, 검색, 비교할 수 있는 통합 데이터베이스가 있습니다. 결론적으로, LWM9000은 최신 이미징 및 도량형 기술로 설계된 고급 검사 도구입니다. 이 제품은 생산용 (production) 과 실험실 (laboratory) 모두에 적합한 선택으로, 고급 이미징 기능과 포토마스크 또는 웨이퍼를 빠르고 정확하게 분석하기 위한 자동화를 제공합니다. 또한 이 디바이스는 사용자 친화적이며, 대규모 또는 분할된 데이터 세트의 사용자 지정 및 전문가를 분석할 수 있습니다.