판매용 중고 TKK MAC-110MV1 #9375010

TKK MAC-110MV1은 전자 제품 제작 및 마이크로 머신에서 품질 제어를 제공하기 위해 설계된 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 전자 부품이 통합된 장치, 포토마스크 (photomask), 반도체 웨이퍼 (wafer) 등 다양한 응용 분야에서 사용할 수 있는 다용도 도구다. 이 시스템은 광학 (optical) 방법과 기계적 (mechanical) 방법을 결합하여 정확하고 안정적인 검사를 수행합니다. 이 장치에는 고해상도 카메라와 비전 머신 (vision machine) 이 장착되어 있으며, 생성된 이미지는 강력한 이미지 처리 소프트웨어 (image processing software) 에 의해 처리되어 문제를 빠르고 정확하게 감지합니다. 가변 확대에서는 나노 미터만큼 작은 피쳐를 검사할 수 있습니다. 이 도구에는 자동 단계 교정, 왜곡 교정 및 자동 정렬이 있습니다. MAC-110MV1에는 5X ~ 1000X의 여러 디지털 및 아날로그 확대율이 장착되어 있습니다. 이렇게 하면 웨이퍼 (wafer) 또는 캡슐화된 (encapsulated) 표면에서 가장 작고 복잡한 피쳐도 캡처할 수 있습니다. 또한 조정 가능한 샷 정렬 (shot alignment) 방법은 각 이미지를 정확하게 정렬하고 정확한 이미지 캡처를 보장하는 데 도움이 됩니다. 이 자산은 또한 다양한 품질 관리 (Quality Control) 요구 사항을 충족하도록 설계된 다양한 이미지 모드를 제공합니다. 이러한 이미지 모드에는 필름 패턴, 금속화 깊이, 서피스 분리 및 기능 레이어 분석이 포함됩니다. 이 모델은 신뢰성이 높으며 터치 스크린 및 전극에 민감한 표면을 사용하여 작동이 쉽습니다. 또한 최첨단 광 및 기계 구성 요소는 고정밀 결과를 제공합니다. 마지막으로, 장비는 다른 분석 시스템과 공유할 수 있는 통합 라이브러리 (Integrated Library) 로 설계되어 결과의 호환성을 보장합니다. 결론적으로, TKK MAC-110MV1은 품질 관리 및 검사를 위한 종합적인 시스템을 제공하며, 광범위한 장치/마이크로패브라이션 어플리케이션에 적합합니다. 이 장치의 고급 광/기계 부품 (Optical/Mechanical Component) 및 맞춤형 이미지 모드는 최소한의 노력으로 정확하고 안정적인 검사를 보장합니다.