판매용 중고 SVG / PERKIN ELMER / BSL OS 2000 #9162533
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ID: 9162533
웨이퍼 크기: 2"-4"
빈티지: 2011
Projection mask aligner, 2"-4"
BETA SQUARED Control system
Single windows based object-oriented computer
BSL Automatic helium regulator
Manuals
Resolution:
Lines spaces: 1.25 µm
UV-4 (340-440 nm)
Throughput: (120) Wafers per hour, 125/100 mm system
Depth of focus: ±6 µm For 1.5 µm Lines and spaces
Focus stability: ±2.0 µm Over 6 days
Focus range: ±200 µm ±450 µm With extended bellows chuck
Partial coherence: Variable, 0.37 - 0.86
Numerical aperture: 0.167
Uniformity of illumination: ±3.0%
Particulate generation:
(7) Particles per wafer pass (1.0 µm / Larger)
Pre-alignment: 600 Style
First-level placement accuracy: ±15 µm
Wafer / Substrate sizes: 2"
Standard: 4"
2011 vintage.
SVG/PERKIN ELMER/BSL OS 2000은 산업용으로 설계된 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 이 시스템은 기능 및 마스크 결함 식별, 품질 관리 (Quality Control) 및 생산 모니터링 등 다양한 광학 측정을 수행합니다. 이 장치는 현미경과 디지털 카메라, 컴퓨터 인터페이스, 스펙트럼 변환 단계, 광원 등 여러 구성 요소로 구성되어 있습니다. 기계의 현미경은 웨이퍼 (wafer) 또는 마스크 (mask) 의 고해상도, 고대비 이미지를 제공하도록 설계되었습니다. 이 "카메라 '에는" 와퍼' 나 "마스크 '의" 이미지' 를 찍어 "컴퓨터 '에 저장 하는 데 사용 되는" 디지털 카메라' 가 들어 있다. 현미경으로, 작은 결함과 특징을 정확하게 감지 할 수 있습니다. 스펙트럼 변환 단계 (spectral translation stage) 는 전체 웨이퍼나 마스크를 검사할 수 있도록 움직임을 제공합니다. 이를 통해 넓은 영역을 보다 정확하게 검사하고 다른 이미지를 더 잘 비교할 수 있습니다. 광원은 분석 중에 웨이퍼와 마스크를 비추며, 고대비 (high contrast) 이미지를 얻을 수 있습니다. 컴퓨터 인터페이스를 사용하면 분석 전에 데이터를 SVG OS 2000으로 가져올 수 있습니다. 이를 통해 이미지 비교 및 자동 결함 감지 및 분류가 가능합니다. 이 소프트웨어에는 여러 이미지를 비교하기위한 히스토그램 (histogram), 자동화된 결함 감지 알고리즘 (automated defect detection algorithms), 다양한 분석 도구 (other tools for analysis) 등 다양한 도구가 로드되어 있습니다. 이 소프트웨어를 사용하면 정확성과 속도가 보장됩니다. 마지막으로, 추가 기능을 위해 다양한 다른 SVG 기기에 도구를 연결할 수 있습니다. 여기에는 FIB (집중 이온 빔 현미경), CVD/PVD 시스템 (화학 증기 및 물리적 증착 시스템) 및 청소 도구가 포함됩니다. 이 모든 것 들 은 "와퍼 '나" 마스크' 에 있을 수 있는 결함 을 감지 하는 데 사용 될 수 있다. BSL OS 2000은 고해상도 마스크 및 웨이퍼 검사를 수행하는 종합적인 자산입니다. 사용 하기 가 매우 쉽고, 여러 가지 산업· 연구 요건 에 맞게 조정 할 수 있다. 이 모델은 강력한 현미경, 광원, 스펙트럼 변환 단계, 디지털 카메라, 소프트웨어 등 다양한 결함을 감지할 수 있으며, 빠르고 정확하게 기능을 제공합니다.
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