판매용 중고 RUDOLPH WV 320 #9248814
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ID: 9248814
웨이퍼 크기: 12"
Macro defect inspection system, 12"
(2) BROOKS Loadports with FOUP
Loadports carrier reader: RFID Type
YASKAWA Robot
Light source:
Head: 20 um
Xenon flash lamps
Wavelength range: 480-750 nm
Resolution: Above 25 um
Function:
YVS Server
3D Defect image generation
Auto Defect Classification (ADC) function.
RUDOLPH WV 320은 고급 마스크 및 웨이퍼 검사 장비로, 마스크 및 웨이퍼 검사를 위해 높은 정확도와 고해상도 3D 이미지를 사용할 수 있습니다. "마스크 '와" 웨이퍼' 기하학 을 검사 하는 데 사용 할 수 있는 고급 광학 장치 와 "매크로 '와" 마이크로' 영상 요소 들 을 갖추고 있다. 시스템의 고급 광학 장치 (advanced optics unit) 에는 자동화된 줌 (zoom) 메커니즘과 편광 필터가 포함되어 있으며, 이는 완전히 조절 가능하며 미묘한 결함을 감지하고 서브 미크론 입자 또는 회로 형상을 검사하는 데 사용될 수 있습니다. 정교한 3D 이미징 머신은 최대 17mm 크기의 검사 영역에서 고해상도 결과를 캡처합니다. 강력한 이미지 처리 및 분석 기능을 통해 RUDOLPH WV320은 미세 핀 홀, 스크래치 및 외국 입자와 같은 미묘한 결함을 감지하고 측정 할 수 있으며, 최대 10nm 정밀도를 제공합니다. 기본 제공되는 웨이퍼 정렬 (wafer alignment) 기능을 사용하여 여러 웨이퍼 섹션을 동시에 검사할 때 샘플을 정확하게 정렬할 수도 있습니다. 또한 WV 320에는 효율적이고 빠른 마스크 검사를 가능하게 하는 여러 가지 고급 기능이 있습니다. 대부분의 업계 표준 CAD 시스템과 호환되며, 대형 마스크 및 복잡한 구조를 검사하기 위해 라인 스캔에서 고화질의 3D 모델을 생성할 수 있습니다. 이 도구에는 초당 256 개의 비접촉 레이저 스캔을 생성할 수 있는 iScan 레이저 에셋이 장착되어 있어, 처리량이 높은 3D 스캔 및 이미징이 가능합니다. 또한 모델의 DITS (Dynamic Image Tracking Equipment) 는 마스크 검사 중에 초점과 노출 설정을 조정하여 일정한 이미지 품질을 유지할 수 있습니다. 마스크 및 웨이퍼 검사 시스템을 결합한 WV320은 뛰어난 성능, 안정성, 정확성을 제공합니다. 최대 3C 측정, 더 나은 프로세스 제어, 향상된 수율 및 품질을 위한 포괄적인 분석 기능을 사용자에게 제공합니다 (영문). 마스크 및 웨이퍼 (wafer) 검사에서 정확성과 반복성을 요구하는 고객에게 이상적인 선택입니다.
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