판매용 중고 RUDOLPH NSX 115D #9260018

RUDOLPH NSX 115D는 반도체 제조 공정 중 오염, 표면 결함 및 기타 불규칙성을 식별하도록 설계된 최첨단 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 동급 최고 수준의 자동 성능을 제공하는 이 시스템은 4.7kW Xenon 램프, 프로그래밍 가능한 광학 장치, 고해상도 CMOS 센서를 갖춘 이미징 장치를 갖춘 광원을 갖추고 있습니다. 최대 1K x 2K 픽셀의 총 시야 (field of view) 를 통해 기계는 마스크 및 웨이퍼를 검사하여 작은 기능인 5m까지 검사할 수 있습니다. NSX 115D는 특허를 획득한 SSR (Sub-Pixel Response) 이미지 처리 기술을 통해 100% 픽셀 레벨 웨이퍼 및 마스크 결함 감지 기능을 제공합니다. 이미지 기반 도량형 (Metrology) 툴을 사용하여 몇 분만에 피쳐와 결함을 신속하게 파악하고 측정할 수 있습니다. 이 자산에는 마스크/레티클 검사 도구 인 와퍼 마스크 (WaferMask) 를 포함한 다양한 소프트웨어 응용 프로그램이 있습니다. 자동 웨이퍼 검사 도구 인 WaferMarker; 매핑/초점 도구 인 WaferMapper. 이러한 모든 응용 프로그램은 직관적인 그래픽 사용자 인터페이스 (GUI) 를 통해 액세스 할 수 있습니다. 또한 RUDOLPH NSX 115D는 TIF, BMP, JPG 및 PDF와 같은 다양한 데이터 출력 형식을 지원합니다. 또한 선택적 OCR (optical character recognition) ID 판독기를 사용하여 웨이퍼 또는 마스크에서 다양한 유형의 텍스트와 기호를 인식 할 수 있습니다. 이 모델에는 조정 가능한 조명 테이블, 진공 지팡이, 자동 웨이퍼 스캐닝 및 로딩, 여러 카메라 위치 (camera position) 등 포괄적인 하드웨어 지원 패키지도 제공됩니다. NSX 115D 는 마스크 및 웨이퍼 (wafer) 의 기능과 결함을 자동으로 감지하는 완벽한 툴입니다. 포괄적인 하드웨어/소프트웨어 패키지를 통해 동급 최고의 성능과 안정성을 제공합니다. 다양한 데이터 형식을 지원하므로 반도체 제조 공정 (semiconductor manufacturing process) 에 쉽게 통합할 수 있습니다. 이를 통해 RUDOLPH NSX 115D는 자동 검사 및 마스크 및 웨이퍼 검사 진단이 필요한 모든 반도체 프로세스에 이상적인 선택입니다.