판매용 중고 RUDOLPH / AUGUST NSX 90 #9175960

ID: 9175960
웨이퍼 크기: 8"
Defect inspection system, 8".
RUDOLPH/AUGUST NSX 90 Mask & Wafer Inspection Equipment는 반도체 장치에 존재하는 심각한 결함을 감지, 격리 및 측정하도록 설계되었습니다. 이 시스템은 최첨단 통신 현미경, 정밀 웨이퍼 스테이지 및 2 개의 고해상도 CCD 카메라 및 2 개의 적외선 검출기를 포함한 4 개의 카메라로 구성됩니다. 이 장치는 다양한 확대 (Magnification) 에 걸쳐 넓은 영역을 스캔할 수 있으며, 전체 웨이퍼 서피스를 커버하는 고급 검사 (Advanced Inspection) 기능을 사용할 수 있습니다. 고해상도 CCD 카메라를 사용하여 AUGUST NSX 90은 라인 브레이크 (line break), 다이 크랙 (die crack) 및 폴리 보이드 (poly void) 와 같은 매우 작은 결함을 감지하고 분리 할 수 있습니다. 이 기계는 또한 자동 광학 인식 도구 (Optical Recognition Tool) 를 갖추고 있으며, 전용 알고리즘을 사용하여 결함을 정확하게 찾고 분류합니다. 결함이 발견되면, 자산은 CCD 카메라를 사용하여 결함의 구조, 크기, 모양, 웨이퍼 (wafer) 에 대한 자세한 그림을 생성할 수 있습니다. RUDOLPH NSX-90 Mask & Wafer Inspection Model은 2 개의 적외선 검출기를 사용하여 고급 다중 매개 변수 검사를 수행하도록 설계되었습니다. 장비는 입자와 오염 물질을 매우 정확하고 정밀하게 감지하고 분류 할 수 있습니다. 이 시스템은 정교한 알고리즘을 활용하여 복잡한 입자를 인식하고 크기 (size), 재료 유형 (material type) 및 기타 광학 매개변수로 분류할 수 있습니다. 또한, 이 장치는 온보드 이미지 처리 및 분석 기능을 사용하여 심각한 결함을 감지하고 분리하고, 입자를 산출할 수 있습니다. 또한 NSX-90 Mask & Wafer Inspection Machine 은 스캔 완료 후 결함 성능에 대한 자세한 분석을 제공할 수 있습니다. 고급 이미지 분석 도구는 평균 결함 크기, 결함 밀도 및 수율을 계산합니다. 에셋은 또한 평균 입자 크기, 3D 지형 및 결함 마스크를 계산할 수 있습니다. 이 모델은 또한 측정에 대한 상세한 보고서를 자동으로 생성할 수 있으며, 엔지니어가 검사 결과를 빠르고, 정확하게 분석 할 수 있습니다. NSX 90 Mask & Wafer Inspection Equipment는 반도체 산업에 필수적인 도구입니다. 고급 이미징 (Imaging), 분석 (Analysis), 보고 (Reporting) 툴을 통해 상세하고 정확한 검사 기능을 제공함으로써, 엔지니어는 반도체 장치 제조 프로세스를 개발하고 개선해야 하는 정보를 확보할 수 있습니다.
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