판매용 중고 RUDOLPH / AUGUST NSX 105 #9276182

RUDOLPH/AUGUST NSX 105 Mask & Wafer Inspection Equipment는 매우 높은 정확도로 다양한 마스크와 웨이퍼를 검사하도록 설계된 전문 산업 장비입니다. 이 시스템은 최신 CMOS 이미징 기술과 고급 옵티컬 디자인 (Optical Design) 을 결합한 것으로, 검사 샘플의 이미지 품질이 우수합니다. 8 월 NSX-105 Mask & Wafer Inspection Unit (8 월 NSX-105 Mask & Wafer Inspection Unit) 의 독특한 설계는 마스크, 웨이퍼 및 결함에 대한 레티클을 빠르고 정확하게 자동으로 측정하여 가장 엄격한 품질 제어 및 테스트 표준에 사용하기에 적합합니다. RUDOLPH NSX 105 Mask & Wafer Inspection Machine은 특허를받은 UCH (Ultra Contrast Hypersensitive) 이미징 모듈을 도구에 내장하여 검사 샘플의 이미지 대비를 개선하여 선명도와 해상도를 높였습니다. 또한, 에셋에는 고해상도 이미징 도구가 있으며, 이 도구는 마스크 및 웨이퍼 이미지를 인라인 (in-line) 검사할 수 있습니다. 또한 NSX 105 Mask & Wafer Inspection Model (NSX 105 마스크 및 웨이퍼 검사 모델) 에는 마이크로 디스펜싱 장비가 장착되어 있으며, 이 장비는 표면에 감광 물질을 자동으로 제어 방식으로 분배할 수 있습니다. 이 마이크로 디스펜싱 (micro-dispensing) 시스템은 크기가 크고 모양이 다양한 샘플을 빠르고 정확하게 검사할 수 있도록 합니다. RUDOLPH/AUGUST NSX-105 Mask & Wafer Inspection Unit에는 고밀도 결함 감지 및 분석을위한 고급 이미지 처리 및 소프트웨어 알고리즘도 포함되어 있습니다. 이 알고리즘은 푸리에 (Fourier) 분석 및 기타 현대 측정 기법을 기반으로하며, 검사에서 가장 미세한 변형을 최고 수준의 정확도로 캡처 할 수 있습니다. 또한, 기계는 패턴 (pattern) 이나 기하학적 왜곡 (geometric distortions) 의 잘못 정렬과 같은 오류를 감지하고 수정 할 수 있습니다. 또한 RUDOLPH/AUGUST NSX 105 Mask & Wafer Inspection Tool은 저온 또는 고온, 습도 및 잔해와 같은 극단적 인 환경 조건에 사용하도록 설계되었습니다. 또한 빠른 속도로 결함 검사를 수행할 수 있으며, 극한 환경 조건에 대한 광범위한 광학 필터 (optical filter) 와 조명원 (illumination source) 을 갖추고 있습니다. 에셋은 또한 결함 검사에 대한 상세한 보고서 생성 도구 (Report Generation Tool) 와 손쉬운 작업을 위한 GUI (Graphical User Interface) 를 제공합니다. 이 모델은 비용 효율이 높게 설계되었으며, 운영 비용이 저렴하며, 탁월한 성능과 안정적인 결과를 제공합니다. 전반적으로 RUDOLPH NSX 105 Mask & Wafer Inspection Equipment는 다양한 산업에서 고정밀 마스크 및 웨이퍼 검사를 수행하는 강력하고 신뢰할 수있는 도구입니다. 이 제품은 검사 과정에서 정확성, 정확성, 생산성을 중시하는 모든 기업에 꼭 필요한 요소입니다.