판매용 중고 RMB-TECHNOLOGY SiS 300-3D #9280062

RMB-TECHNOLOGY SiS 300-3D는 고성능 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 이 고급 시스템 (Advanced System) 은 정확도가 높은 다양한 마스크 및 웨이퍼 유형을 분석하여 결함률이 최소화되도록 설계되었습니다. SiS 300-3D 장치는 6 인치, 8 인치 및 12 인치 크기를 포함한 대형 마스크와 웨이퍼를 검사 할 수 있습니다. 고해상도 이미지 캡처 (high-resolution image capture) 기능을 통해 가장 복잡한 마스크 패턴에서도 결함을 명확하게 식별할 수있는 매우 상세한 이미지를 얻을 수 있습니다. 이 기계는 라인 너비 해상도 (line-width resolution), 입자 결함 (particle defects), 웨이퍼 패턴 결함 (wafer pattern defect) 등 다양한 결함을 캡처할 수 있습니다. 게다가, 이 도구는 고속 이미징 및 패턴 매칭 (pattern matching) 도 가능하며, 실시간으로 결함을 감지하고 분석 할 수 있습니다. 또한 RMB-TECHNOLOGY SiS 300-3D는 다양한 마스크 및 웨이퍼 재료 (예: 쿼츠, SiO2 및 polysilicon) 와 호환 웨이퍼를 처리 할 수 있습니다. 이 자산은 핀 홀, 아크 브리징, 노출 된 필름 등 다양한 유형의 결함을 감지 할 수 있습니다. 또한, 나노 스케일 (nano-scale) 수준의 결함을 분석 할 수 있습니다. 이는 웨이퍼 및 마스크 패턴에서 극도로 미세한 결함을 감지하는 데 필수적입니다. SiS 300-3D 는 사용자 친화적인 모델로서, 사용자가 운영 및 관리를 쉽게 수행할 수 있도록 다양한 자동 기능을 제공합니다. 즉, 고속 이미지 캡처 메커니즘과 강력한 데이터 처리 알고리즘을 통해 결함을 신속하게 측정, 분석, 보고할 수 있습니다. 매우 정확한 자동 초점 제어 장비를 통해 정확하고 일관된 이미징을 구현할 수 있습니다. 이 시스템에는 사용자 친화적 인 GUI 및 채점 장치 (Scoring Unit) 가 장착되어 있어 정확한 통계 분석 보고서를 실시간으로 출력할 수 있습니다. RMB-TECHNOLOGY SiS 300-3D는 매우 안정적이고 효율적이며, 하나의 정확한 작업에서 대용량 웨이퍼와 마스크를 빠르게 스캔할 수 있습니다. 이 기계는 마스크 (Mask) 및 웨이퍼 (Wafer) 생산 라인을 위한 완벽한 선택이며, 제품의 품질을 높이는 안정적이고 비용 효율적인 방법을 제공합니다.