판매용 중고 PARLEC P2500A-0387 #9266043

PARLEC P2500A-0387은 고정밀 광학/스캔 전자 현미경 (SEM) 및 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 이 시스템을 통해 사용자는 나노미터 (nanometer) 레벨에서 마스크와 웨이퍼 (wafer) 의 중요한 패턴 피쳐를 보고 측정할 수 있습니다. P2500A-0387에는 고해상도 SEM 이미징 장치 (SEM Imaging Unit) 가 있어 고급 패턴 기능을 보고 측정할 수 있습니다. 고급 자동 웨이퍼 스캐닝 (Automatic Wafer Scanning) 기능이 장착되어 있어 전체 웨이퍼를 자동으로 매핑할 수 있습니다. 자동 피쳐 추출 기능은 결함, 오버레이 데이터의 특성, 피쳐 분석을 정확하게 감지하고 측정할 수 있습니다. 이 기계는 고급 프로세스 노드 (advanced process nodes) 에서 로우-k 유전체 레이어 (low-k dielectric layer) 에 이르기까지 다양한 마스크와 웨이퍼를 검사 할 수 있습니다. 또한, 이 툴은 편리한 사용자 인터페이스를 제공합니다. 따라서 사용자는 데이터를 빠르고 효율적으로 상호 작용할 수 있습니다. PARLEC P2500A-0387은 미세 기능 측정을 위해 광학 이미징 프로세스를 사용합니다. 스프레드 스펙트럼 간섭법 (Spread Spectrum Interferometry), 에지 명암법 (Edge Contrast) 및 비파괴적 IR 이미징을 사용하여 PARLEC는 높은 정확도와 정밀도로 표면 지형을 측정 할 수 있습니다. IR 이미징 프로세스는 로우-k 재료 두께를 감지하고 측정할 수 있으며, 이는 고급 프로세스 노드에 매우 중요합니다. SEM 이미징 자산에는 2 차 전자, 역 산란 전자 및 X- 선 검출기가 포함됩니다. 이러한 모든 검출기는 피쳐 모양과 치수 매개변수를 모두 측정하는 데 사용할 수 있습니다. 또한, 사용자는 다양한 표본 회전 기능에 액세스할 수 있으며, 이를 통해 어려운 기능의 3D 지형을 정확하게 측정 할 수 있습니다. 마스크 & 웨이퍼 검사 모델 (Mask & Wafer Inspection Model) 에는 강력한 인터페이스 소프트웨어가 있으며, 사용자가 웨이퍼 측정 및 분석에 필요한 모든 매개변수를 제공합니다. 또한 에지 감지 (edge detection), 피쳐 분석 (feature analysis), 오버레이 측정 (overlay measurement) 등 광범위한 강력한 자동화 도구를 지원합니다. 전반적으로 P2500A-0387은 매우 강력하고 정확한 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 나노미터 (nanometer) 수준에서 중요한 패턴 피쳐를 측정할 수 있도록 설계되었으며, 고급 프로세스 노드 (advanced process node) 와 로우-k (low-k) 유전체 레이어를 최대한 활용할 수 있습니다. 또한, 대화형 사용자 인터페이스와 자동화 된 기능은이 시스템을 모든 EMS 실험실에서 귀중한 장치로 만듭니다.