판매용 중고 PARAGON Ultra 60 #9203543
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ID: 9203543
Laser imaging system
Minimum pitch: 50µm
Minimum feature size: 16µm
Data resolution: 2µm (12,700 dpi)
Edge roughness (3σ): ±1µm
Registration accuracy (FTG): ±8µm
Side to side registration (3σ): 15µm
Maximum substrate size: 558mm x 660mm 22" x 26"
Maximum image size: 508mm x 609mm 20" x 24"
Substrate thickness: 0.05mm to 3mm
Imaging wavelength: UV range, 355nm
Energy range: 10-2200 mJ/cm²
Different energy settings:
500 x 400mm, 4 Symmetrical targets, 6sec load/unload
10mJ/cm² - 80 panels/hour
20mJ/cm² - 80 panels/hour
80mJ/cm² - 35 panels/hour
10mJ/cm² - 30 panels/hour
120mJ/cm² - 25 panels/hour
Applications:
IC Substrates
Solder mask
Inner layers & outer layers
Sequential build-up layers
Flex & rigid-flex PCBs
Standard configuration:
Laser system
OPFX Input
RIP Server
8GB Raster memory
Scaling system & power vacuum
System options:
Hole-free inner layer registration
Partial scaling
Wise scaling
Stamping
2D Barcode stamp
Additional vacuum customization plate.
PARAGON Ultra 60은 고성능 수율과 함께 고급 도량형을 제공하는 고정밀 Mask & Wafer Inspection Equipment입니다. 이 시스템은 높은 정확성, 재현성, 반복성으로 마스크 및 웨이퍼 결함을 검사하도록 특별히 설계되었습니다. 이 장치는 프로세스 관련 결함, 잔류 및 사양 외 기능을 감지 할 수 있습니다. 이 기계는 마스크 (Mask) 와 웨이퍼 (Wafer) 의 앞면과 뒷면을 모두 이미징 할 수있는 고급 이미징 기술을 사용합니다. 이렇게 하면 공구가 피쳐와 결함을 정확하게 측정할 수 있습니다. 이 자산은 또한 온도 변화, 증착, 재료 저항으로 인해 결함에 대한 중요한 감지 및 분석을 수행 할 수 있습니다. 이 모델은 이미지 및 전기 측정에 정확한 자동 결함 검사를 사용합니다. 이를 통해 장비는 프로세스 변형으로 인한 결함을 정확하게 식별하고 측정할 수 있습니다. 광학 시스템은 또한 2nm 미만의 공구 해상도로 작은 패턴 결함 (예: 얇은 선 및/또는 기타 피쳐) 을 감지할 수 있습니다. 이 장치에는 직관적인 컨트롤 패널과 인체 공학 측정 디자인이 포함 된 사용자 친화적 인 그래픽 인터페이스도 있습니다. 즉, 운영 및 데이터 해석을 쉽게 수행할 수 있으며, 여러 운영 모드도 사용할 수 있습니다. 울트라 60 (Ultra 60) 에는 최대 500mm/s의 초고속 스캔 속도가 장착되어 있어 결함을 신속하게 감지하고 분석할 수 있습니다. 이 기계는 SEMI P-O 또는 기타 표준 형식과 같은 다양한 형식과도 호환됩니다. 이 도구는 건조 (dry) 또는 습식 (wet) 환경에서 작동 할 수 있으므로 광범위한 어플리케이션에 적합합니다. 이 자산은 또한 광범위한 시야를 제공하여 결함을 감지하고 측정할 수 있도록 도와줍니다. 사용자 친화적인 제어판에는 데이터 통신이 간편한 표준 사용자 인터페이스가 포함되어 있습니다. 또한 마스크 또는 웨이퍼의 3D 이미지에서 누락 된 구조, 인쇄 결함, 잘못된 정렬 및 누락 된 채널을 감지 할 수있는 내장 비교 알고리즘이 포함되어 있습니다. PARAGON Ultra 60은 접촉 (contact) 및 비접촉 (non-contact) 기술을 포함한 다양한 진단 도구로 작동하도록 설계되었습니다. 또한 공정 또는 재료 관련 결함을 높은 정확도로 측정 할 수 있습니다. 결론적으로 Ultra 60은 매우 효율적이고 안정적인 Mask and Wafer Inspection Model로, 고성능 수율과 함께 고급 도량형을 제공합니다. 사용자 친화적인 제어판과 광시야각 (field-of-view) 기능을 통해 다양한 어플리케이션에 적합합니다.
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