판매용 중고 OLYMPUS MHL 525 #9195386

올림푸스 MHL 525 (OLYMPUS MHL 525) 는 반도체 웨이퍼와 마스크를 빠르고 정확하게 검사 할 수있는 기능이있는 마스크 및 웨이퍼 검사 시스템입니다. 이 시스템은 고급 이미징 기술 (Advanced Imaging Technology) 을 사용하여 최대 5000배의 매우 높은 해상도로 표면 기능의 미묘한 차이를 감지합니다. 웨이퍼 서피스 (Wafer Surfaces) 를 포함한 다양한 베이스 기판의 패턴을 최대 정확도로 검사하도록 설계되었습니다. 올림푸스 MHL-525 (OLYMPUS MHL-525) 는 패턴 인식 소프트웨어 엔진을 사용하여 피쳐의 크기를 0.6 마이크로미터까지 낮출 수 있습니다. 단일 검사 주기로 최대 300mm 직경의 대형 웨이퍼 서피스를 스캔 할 수 있습니다. 또한 표면 기능에서 매우 약간의 변동을 감지하기 위해 고정밀 (high-precision) 광학 센서가 특징입니다. 예를 들어, 누락되거나 비정상적으로 변위된 단일 요소를 감지할 수 있습니다. MHL 525는 직접 이미징 및 직접 웨이퍼 매핑이 모두 가능합니다. 직접 이미징을 사용하면 각도 또는 관점에서 기판을 검사할 수 있습니다. 직접 웨이퍼 (Direct Wafer) 매핑을 사용하면 상세한 도량형 데이터를 수집 할 수 있으므로 보다 정확한 검사를 할 수 있습니다. MHL-525의 주요 구성 요소에는 광시야각 스테레오 현미경, 고화질 LCD 모니터, LED 소스, 입자 인식 소프트웨어 엔진 및 기가비트 이더넷 연결이 포함됩니다. LCD 모니터를 사용하면 검사된 객체를 실시간으로 볼 수 있으며 LED (LED) 소스는 기판을 비추어 최적의 이미지 대비를 할 수 있습니다. 입자 인식 소프트웨어 엔진은 반도체 웨이퍼와 마스크 모두에서 현지화된 결함을 감지 할 수 있습니다. 이 소프트웨어는 다른 종류의 miniscule 불규칙성과 함께 0.2 m의 작은 결함을 인식 할 수 있습니다. 소프트웨어는 16 비트 A/D 보드 및 PCI 버스를 포함하는 강력한 이미지 처리 하드웨어 플랫폼에서 실행됩니다. OLYMPUS MHL 525는 다양한 검사를 수행하기 위해 많은 해상도와 속도 설정을 지원합니다. 사용자가 검사된 객체의 속도, 모양, 크기를 설정하고 조정할 수 있습니다. 또한, 사용자는 다양한 컴포넌트의 강도를 변경하여 개체에 대한 해상도 (resolution) 와 명암비 (contrast) 를 높일 수 있습니다. 전반적으로 OLYMPUS MHL-525는 매우 효율적이고 신뢰할 수있는 마스크 및 웨이퍼 검사 시스템입니다. 최첨단 옵티컬 기술, 첨단 소프트웨어 알고리즘, 강력한 하드웨어 플랫폼 등을 통해 복잡한 마스크 및 웨이퍼 (wafer) 검사 작업을 완벽하게 수행할 수 있습니다.