판매용 중고 NIKON Optistation VII #9171873

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마스크 & 웨이퍼 검사
제조사
NIKON
모델
Optistation VII
ID: 9171873
웨이퍼 크기: 12"
Wafer defect inspection system, 12", parts machine (2) FOUP Front end load ports ASYST ISO port FL300 with mapper and RF ID ULPA Filtration system Air suspension vibration isolation table Standard microscope unit with automated control Eyepieces: 10x Objective lens: 2.5x 0.075 W.D. 8.8 mm 10x N.A. 0.300 W.D. 6.50 mm 20x N.A. 0.460 W.D. 3.10 mm 50x N.A. 0.900 W.D 0.42 mm 15x N.A. 0.900 W D.0.29 mm Halogen lamp house: 12 V, 100 W Robot controller Ceramic robot arm Macro unit A: Wafer chuck Macro movable unit Slider assembly Macro unit B: Arched holder Rotation unit assembly Micro stage unit XY Stage / Chuck XYZ Drive unit DART Controller: Image archiving and defect review LCD Display Keyboard / Trackball Image capture board: Integral technologies video card SONY Camera: DXC- 9XX/MD Includes: Robot Sensor ARM Power supply Magnetic track Controller.
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NIKON Optistation VII는 포괄적이고 고급 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 다양한 이미징 플랫폼을 갖춘 고휘도 (High Brightness) 이미지 센서가 장착되어 있어 다양한 검사 작업에 적합합니다. 이 시스템은 특히 웨이퍼 리소그래피 (wafer lithography) 및 마스크 검사 (mask inspection) 에서 미세한 결함을 정확하고 정확하게 식별하는 데 적합합니다. 이 장치에는 4개의 CCD 컬러 센서가 포함되어 있으며, 기존의 마스크 및 웨이퍼 검사 시스템보다 최대 10배 큰 해상도로 컬러 이미지를 캡처할 수 있습니다. 또한 뛰어난 밝기, 해상도, 채도 및 동적 범위를 제공하는 DLP 프로젝션 기술이 내장되어 있습니다. 또한 DLP 기술은 탁월한 균일성 (unifority) 과 일관성 (consistency) 을 제공하여 기존 시스템에 비해 뛰어난 화질을 제공합니다. Optistation VII는 선명한 이미징을 위한 최첨단 Optic도 갖추고 있습니다. 고급 파면 감지 및 수정 기술을 사용하여 광학 수차를 제거합니다. 이를 통해 웨이퍼 (Wafer) 와 마스크 검사 (Mask Inspection) 모두에서 매우 훌륭한 기능을 감지 할 수있는 매우 날카로운 광학 머신을 확보할 수 있습니다. 이 도구에는 광범위한 이미지 처리 및 분석 도구 (예: 자동 정렬, 결함 검토, 패턴 일치, 동적 이미지 향상) 가 포함되어 있습니다. 이미지 처리 및 분석 도구를 사용하여 웨이퍼 (wafer) 및 마스크 검사 (mask inspection) 의 결함을 식별하고 분석할 수 있습니다. 또한 NIKON Optistation VII에는 자동 초점, 3D 스티칭, 고급 이미지 처리 알고리즘과 같은 여러 가지 다른 고급 기능도 포함되어 있습니다. 이 자산은 또한 통합 통계 생성 (statistics generation) 기능을 갖추고 있으며, 각 검사 실행의 결과를 자세히 분석 할 수 있습니다. Optistation VII는 마스크 및 웨이퍼 검사 어플리케이션에 이상적인 솔루션으로, 탁월한 성능과 안정성을 제공합니다. 이 제품은 웨이퍼 (wafer) 및 리소그래피 (lithography) 제작에 사용되는 다양한 컴포넌트를 검사하고 분석하는 데 효과적이고 효율적인 모델입니다.
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