판매용 중고 NIKON Optistation III #293616241

NIKON Optistation III는 반도체 산업을 위해 NIKON이 개발 한 고급 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 이 시스템은 탁월한 정확성과 정확도를 제공하여 고급 검사 어플리케이션 (advanced inspection application) 에 이상적인 선택입니다. NIKON OPTISTATION-III는 TeraOptix라는 NIKON 독점 광학 현미경을 사용하여 탁월한 해상도와 선명도를 제공합니다. 이 현미경은 2 개의 렌즈 대 센서 광학 경로와 강력한 LED 링 라이트를 사용하여 반전 된 광학 장치를 특징으로합니다. 이를 통해 큰 마스크 및 웨이퍼 샘플의 이미지 캡처 (놀라운 세부 사항 포함) 가 가능합니다. Optistation III는 또한 온보드 이미지 처리 엔진 (On-board Image Processing Engine) 을 갖추고 있으며 Tera Optix에서 입력을 받아 이미지 내의 결함을 신속하게 파악합니다. 이 고속 이미지 처리를 통해 나노 미터 스케일 (nanometer scale) 내의 결함 입자 또는 결함을 빠르고 안정적으로 감지 할 수 있습니다. 이 기계는 또한 직관적 인 HMI (Human Machine Interface) 를 특징으로하여 운영자가 하나의 인터페이스에서 도구의 모든 부분을 제어 할 수 있습니다. 여기에는 검사 매개변수 설정, 현미경 및 TeraOptix 제어, LCD 디스플레이의 이미지 보기 등이 포함됩니다. OPTISTATION-III에는 3축 (3 축) 단계도 포함되어 있어 자산 내에서 샘플의 정확한 위치를 지정할 수 있습니다. 마스크뿐만 아니라 125mm, 200mm 및 300mm sickelwafer를 수용 할 수있는 4 개의 샘플 홀더가 있습니다. 더 정확한 샘플 분석을 위해 여러 점을 정확하게 측정하도록 모델을 구성할 수도 있습니다 (영문). NIKON Optistation III는 강력한 마스크 및 웨이퍼 검사 장비로, 반도체 업계에서 가장 까다로운 어플리케이션에 적합합니다. 이 시스템은 NIKON TeraOptix 현미경과 강력한 이미지 처리 엔진을 사용하여 마스크 및 웨이퍼 샘플을 안정적이고 정확하게 분석합니다. 이 장치의 직관적 인 HMI, 3 축 스테이지 및 다중 샘플 홀더도 고급 검사 요구에 널리 사용됩니다.