판매용 중고 NIKON Optistation 3A #9147680

NIKON Optistation 3A는 프로세스 제어를 개선하고 생산 비용을 절감하기 위해 설계된 고급 마스크 및 웨이퍼 (wafer) 검사 장비입니다. 첨단 CCD 이미징 (CCD Imaging) 기술을 활용해 마이크론 (Sub-micron) 수준에서 마스크와 웨이퍼 패턴을 검사하는 고해상도 고해상도 광검사 시스템이다. NIKON OPTISTATION 3 A는 0.25 äm 정도의 불규칙적, 다각형 패턴을 포함하여 다양한 반도체 장치 패턴을 빠르고 정확하게 검사 할 수 있습니다. Optistation 3A는 CCD 이미징 단계와 RGB 이미징 단계의 두 단계로 구성된 듀얼 스테이지 고정밀 이미징 장치를 사용합니다. CCD 이미징 스테이지는 하위 미크론 정확도로 패턴 모서리, 모양 및 선 너비를 측정합니다. 또한 실제 칩 패턴과 마스크 패턴 사이의 오버레이 (오버레이) 에서 결함 감지가 가능합니다. RGB 이미징 단계는 실제 칩 패턴과 마스크 패턴 사이의 색상 불일치 (예: 네이티브 옥사이드) 를 감지하는 데 사용됩니다. OPTISTATION 3 A 의 소프트웨어는 직관적이고 대화형 (Interactive) 사용자 인터페이스를 통해 컴퓨터의 다양한 설정과 기능을 쉽게 구성하고 제어할 수 있습니다. 내장 패턴 인식 및 마스크 분석 도구를 사용하면 웨이퍼 패턴의 결함을 신속하게 감지할 수 있습니다. 이 소프트웨어에는 종합적인 마스크 패턴 및 오버레이 측정, 신속한 결함 식별, 다양한 장치/마스크 패턴 비교 기능도 포함되어 있습니다. NIKON Optistation 3A에는 고급 패턴 감지 알고리즘, 고밀도 교정 및 정렬 시스템, 다중 이미징 수정 기능, 강력한 이미지 인식 엔진 등 최고의 품질 검사 결과를 보장하는 다양한 고급 (Advanced) 기능이 제공됩니다. 이 툴은 또한 다양한 애플리케이션 요구 사항에 맞게 다양한 이미지 구성 (Imaging Configuration) 을 제공합니다. 이 자산은 반도체 업계의 마스크와 웨이퍼를 검사하기 위한 안정적이고 비용 효율적인 솔루션을 제공합니다 (영문). 안정적이고 정확한 vetting 결과, 빠른 처리 속도, 향상된 프로세스 제어 기능을 제공합니다. NIKON OPTISTATION 3 A는 반도체 장치 제작의 생산성과 효율성을 향상시키는 이상적인 솔루션입니다.