판매용 중고 NIKON Optistation 3 #9233004

NIKON Optistation 3은 마스크 및 웨이퍼 검사에 사용되는 고성능, 비용 효율적인 자동 광학 도량형 장비입니다. 높은 정확도, 높은 처리량, 낮은 결함 탐지를 조합하여 제공합니다. 이 시스템은 고급 반도체 제조 공정에 대한 마스크 및 웨이퍼 레이아웃 (mask and wafer layout) 및 임계 치수 측정의 검사 및 분석에 사용됩니다. NIKON OPTISTATION-3은 이중 빔 현미경, 스캔 단계 및 액세서리, 패턴 인식 및 이미지 처리 소프트웨어 (웨이퍼 검사 기능 향상) 를 갖춘 통합 장치로 구성됩니다. 듀얼 빔 현미경은 직관적이고, 사용자 친화적 인 소프트웨어 인터페이스와 결합된 고급 오브젝티브 렌즈 (objective lens) 및 조명 머신 (lighting machine) 으로 설계되었습니다. 고정밀 이미징 및 검사를 통해 안정적인 웨이퍼 제작 프로세스를 보장합니다. 또한, 정밀 광학 도량형 도구를 만들기 위해 스캔 단계 및 액세서리가 포함됩니다. Optistation 3은 엄격한 품질 보증 테스트를 통해 최적화되고 검증되었으며, 도량형 (metrology) 및 프로세스 제어 (process control) 요구 사항에 반도체 업계에서 사용하도록 승인되었습니다. 이 에셋은 고해상도 이미징 (high-resolution imaging), 광시야각 (wide field of view) 및 다중 축 스캔 단계를 통해 가장 정확한 웨이퍼 이미지와 측정을 캡처합니다. 고급 이미지 알고리즘은 오류 없는 (error-free) 결함 인식 및 감지를 허용하는 반면, 패턴 인식 (pattern recognition) 및 이미지 처리 소프트웨어는 자동으로 웨이퍼의 기능을 식별하고 정량화합니다. 안정적인 도량형 및 데이터 정확성을 보장하기 위해 OPTISTATION-3은 정밀 자동 초점, 고감도 이미징, 전자 제어 광학, 서브픽셀 모양 인식 등 다양한 정교한 기능을 활용합니다. 이 모델에는 견고한 이미지 스티칭 (stitching) 이 포함되어 있어 여러 이미지를 높은 정확도로 원활하게 연결할 수 있습니다. 또한 운영자는 NIKON Optistation 3을 사용하여 빠른 효율을 발휘할 수 있습니다. 예를 들어, 추가 기능은 단계별 작업, 고급 웨이퍼 추적 (wafer tracking) 기능을 제공하여 효율적인 제품 특성화 및 데이터 분석을 가능하게 합니다. 전반적으로 NIKON OPTISTATION-3은 마스크 및 웨이퍼 검사를위한 최첨단 고성능 장비입니다. 이 시스템은 정확도, 민감도, 높은 처리량, 결함 감지 (Frect Detection) 기능을 완벽하게 조합하여 효과적인 프로세스 제어 및 고급 반도체 제작을 위한 탁월한 솔루션입니다.