판매용 중고 NIKON 2A #54866

니콘 2A (NIKON 2A) 는 반도체 장치의 처리 요구 사항을 충족하도록 설계된 최첨단 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 고급 옵틱 (optic) 과 이미징 (imaging) 시스템을 활용한 2A 마스크 및 웨이퍼 검사 시스템은 결함 감지 및 검사의 정확성을 높여 안정적인 생산을 보장합니다. NIKON 2A 장치의 기초는 CCD (Charge-Coupled Device) 이미징 기계입니다. 이 도구는 마스크 및 웨이퍼 패턴의 고해상도 이미지를 제공하므로 관리자가 10 나노미터 (10 나노미터) 에서 10 미크론 (10 미크론) 이상의 결함을 정확하게 식별할 수 있습니다. 이 에셋에는 작은 서브 미크론 입자를 감지 할 수있는 14 메가 픽셀 CCD 및 Position Sensitive Detector가 모두 포함됩니다. 고해상도 이미징 모델은 자동 채널 등록 (Automatic Channel Registration) 및 자동 초점 기능 (Auto-focus Function) 을 통해 더욱 향상되어 신속하고 일관성 있게 검사할 수 있습니다. 2A의 광학 장비에는 X 방향과 Y 방향 모두에서 초점을 조정 할 수있는 독특한 광학 측정 시스템 (optical measuring system) 이 포함되어 있습니다. 이 기능을 사용하면 다양한 마스크 및 웨이퍼 (wafer) 유형에 맞게 장치를 정확하게 조정할 수 있습니다. 게다가, 강력 한 조명기 는 "마스크 '와" 웨이퍼' 의 균일 한 조명 을 가능 케 하며, 검사 의 정확성 과 속도 를 더욱 향상 시킨다. optics 및 이미징 시스템 외에도 NIKON 2A는 강유전체 LCD 검사, 에지 감지, 디지털 크기 측정, 결함 위치 지정 등 다양한 추가 기능을 제공합니다. 이 기능을 사용하면 가장 적합한 수정 조치 (corrective action) 를 결정하기 위해 결함 위치와 크기 (size) 를 신속하게 파악할 수 있습니다. 또한 관리자 (Inspector) 는 도구에 저장된 데이터를 액세스하여 결함 소스에 대한 추가 정보를 제공할 수 있습니다. 2A 마스크 및 웨이퍼 검사 에셋은 사용자에게 효율적이고 안정적인 검사 프로세스를 제공하도록 설계되었습니다. 이 모델은 고급 옵틱 (optic) 과 이미징 시스템 (imaging system) 을 활용하여 최소한의 잘못된 경고로 빠르고 정확하게 결함을 식별 할 수 있습니다. 종합 기능 세트와 결합된 결함을 정확하게 식별하는 장비의 능력은 NIKON 2A (Option 2A) 를 모든 반도체 처리 애플리케이션에 적합한 솔루션으로 만듭니다.