판매용 중고 NAPSON PN-50α #9301380

ID: 9301380
Wafer inspection system.
NAPSON PN-50i 마스크 및 웨이퍼 검사 장비는 반도체 산업에서 검사하기위한 포괄적 인 기능을 제공합니다. 신속한 다중 계층 검사 기능을 갖춘 PN-50은 생산성 및 비용 절감 효과를 제공합니다. 이 시스템을 사용하면 마스크 (Mask), 웨이퍼 결함 분석 (Wafer Defect Analysis) 등 다양한 회로 검사를 수행하여 제품의 품질과 신뢰성을 보장할 수 있습니다. NAPSON PN-506 장치에는 마스크 및 웨이퍼 기반 응용 프로그램에 최적화된 고성능 검사 엔진이 포함되어 있습니다. 이렇게 하면 레이어와 웨이퍼를 보다 빠르고 정확하게 검사할 수 있습니다. 다중 계층 검사 기능을 사용하면 디포커스, 오염, 프로세스 특성 검사를 쉽게 수행할 수 있습니다. 또한, 다양한 결함 이미지 생성 및 특성, 유연한 검사 매개변수를 지원합니다. 이 기계는 견고한 검사 엔진 외에도 다양한 고급 비전 (advanced vision) 기술을 갖추고 있습니다. 이러한 기술에는 이미지 개선 알고리즘을 사용하여 결함 감지 (Defect Detection) 의 정확도를 높이고 향상시키는 결함 추출 (Defect Extraction) 이 포함됩니다. 모서리 처리 (Edge processing) 및 장치 특성 (Device Characterization) 모듈을 사용하면 회로 모서리와 특성 패턴을 감지하여 정확도를 얻을 수 있습니다. 또한 이 도구에는 회로 패턴에 대한 자세한 분석을 위한 정교한 패턴 인식 (Pattern Recognition) 모듈이 포함되어 있습니다. 또한 PN-50의 자산에는 작업을 쉽게 수행할 수 있는 많은 사용자 친화적 인 도구가 포함되어 있습니다. 이러한 도구에는 검사 매개변수에 빠르게 액세스하기 위한 대화형 GUI (Graphical User Interface), 데이터 분석을위한 도구 모음, 통합 작업 자동화 도구 등이 있습니다. 이 모델은 또한 강력한 보고 기능 (Reporting Features) 을 제공하여 쉽게 검토하고 제어할 수 있도록 보고서를 신속하게 생성할 수 있습니다. NAPSON PN-50은 반도체 업계에서 가장 높은 품질의 기준을 충족하도록 설계되었습니다. 이 장비는 신속한 검사 기능, 첨단 비전 (vision) 기술 외에도 보안성 (secure) 및 변조 방지 (tamper-resistance) 설계 등 다양한 안전 기능을 제공합니다. 또한, 이 시스템은 유지 보수 및 업그레이드가 쉽고, 장기적으로 비용을 절감할 수 있도록 설계되었습니다.
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