판매용 중고 NANOMETRICS NanoSpec M-5100UV / M-5100 #9211233

NANOMETRICS Nano Spec M-5100UV/M-5100은 다양한 멀티 센서 마스크 및 웨이퍼 검사 장비로, 사용자에게 탁월한 정확도로 효율적인 결과를 제공하도록 설계되었습니다. 업계 최고의 공간 해상도 (Spatial Resolution) 와 가장 정확한 기능 분석을 제공합니다. 이 시스템은 기능 측정, CD 도량형 및 저소음 이미지를 사용자에게 친숙한 단일 기기로 결합합니다. Nano Spec M-5100UV/M-5100에는 4 개의 개별 레이저 기반 스캐너가 포함되어 있으며, 다양한 마스크 및 웨이퍼 검사 응용 프로그램에 사용하기 위해 매우 효율적이고 사용자 정의가 가능합니다. 이 네 개의 스캔 장치는 Nanofocus X-ray, Mask-to-Wafer Unit, Overlay/Flatness Machine 및 Reticle Defect Tool입니다. Nanofocus X- 선 스캐너는 고해상도 이미징 에셋을 사용하여 이미지를 15nm까지 제공합니다. 이 모델을 사용하면 자동 피쳐 인식 (Automated Feature Recognition) 및 일치 (Matching) 기능을 통해 피쳐를 식별하고 특성화하는 데 매우 효율적으로 사용할 수 있습니다. 마스크-웨이퍼 장비 (Mask-to-Wafer Equipment) 는 각 마스크와 웨이퍼의 CD/SD 프로파일을 신속하게 비교 한 다음 둘 사이의 차이를 정확하게 평가할 수 있습니다. 또한 실시간으로 마스크 및 웨이퍼 검사를 수행 할 수 있습니다. 이를 통해 빠르고 효율적인 마스크와 웨이퍼 비교가 가능합니다. 오버레이/평면 시스템 (Overlay/Flatness System) 은 마스크와 웨이퍼의 검사를 평평함과 오버레이 정확도로 신속하게 처리하도록 설계되었습니다. 이 장치는 다른 기능과 크기에 대한 두 가지 차이점을 측정합니다. 따라서 지루한 수동 측정이 필요하지 않습니다. 레티클 결함 기계 (Reticle Defect Machine) 는 레티클의 결함을 감지하고 식별하는 데 매우 정확한 패턴 인식 알고리즘으로 구성됩니다. 또한 감지된 결함을 자동으로 검사하여 레티클을 검사할 때 시간 (time) 과 자원 (resource) 을 절약할 수 있습니다. 전반적으로 NANOMETRICS Nano Spec M-5100UV/M-5100은 매우 효율적이고 정확한 툴로, 마스크와 웨이퍼 기능을 빠르고 정확하게 식별하고 특성화할 수 있습니다. 4 개의 스캐닝 장치 (scanning device) 는 정확한 기능 분석을 통해 가장 높은 공간 해상도를 제공하여 효율적인 마스크 및 웨이퍼 검사에 이상적인 선택입니다.