판매용 중고 NANOMETRICS NanoSpec AFT 6100 #9276360

NANOMETRICS Nano Spec AFT 6100은 단일 나노 미터 (nanometer) 만큼 작은 제조 결함을 감지하여 최적의 제품 수율을 보장하도록 설계된 정밀 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 잘못된 정렬, 프로세스 범위 부족, etch 프로세스 결함, wafer crack, 기능 불일치, 기타 이상 등 거의 모든 패턴 문제를 감지할 수 있습니다. Nano Spec AFT 6100은 결함 맵과 함께 마스크 및 웨이퍼 패턴의 초고해상도 이미지를 촬영하여 작동합니다. 그런 다음, 나노 미터 수준의 피쳐를 분석하여 결함 패턴, 위치, 크기에 대한 자세한 통찰력을 제공합니다. 또한 photomask 피쳐 정확도, 배치 및 정렬 정확도, 패턴 무결성 (pattern integrity) 을 측정하는 데 도움이 됩니다. AFT 6100 은 최대 50 메가픽셀 해상도의 고해상도 카메라와 특허를 받은 디지털 이미지 획득시스템 (digital image acquisition system) 을 탑재해 매우 작은 결함을 감지했다. 이 장치의 소프트웨어 아키텍처에는 강력한 이미지 캡처/결함 감지 엔진, 유연한 데이터 분석/비교 툴, 광범위한 보고 기능 등이 포함되어 있습니다. 기계에는 최대 332배의 확대/축소 (zooming) 기능이 있어 현지화된 결함을 보기 위해 높은 수준의 배율을 사용할 수 있습니다. "와퍼 '나" 마스크' 의 평평 함 과 배치 의 정확성 을 억제 하는 데 사용 되는 투명 한 "처커 '가 갖추어져 있다. NANOMETRICS Nano Spec AFT 6100에는 자동 광학 정렬 도구 (Optical Alignment Tool) 가 있어 포토마스크를 웨이퍼 템플릿에 빠르게 정렬하여 검사 시간을 단축할 수 있습니다. Nano Spec AFT 6100은 매우 유연하고 안정적인 검사 자산을 제공하며 정확도가 높습니다. 직관적인 GUI (그래픽 사용자 인터페이스) 를 통해 결함 정보를 신속하게 찾고 이해할 수 있습니다. 이 모델은 단일 다이 (single die) 에서 장비 (equipment) 수준까지 다양한 수준의 생산, 검증 및 프로세스 개발 작업에 사용될 수 있습니다. AFT 6100 은 사용이 간편하며, 특정 요구 사항을 충족하는 다양한 맞춤식 구성 옵션을 제공합니다. 패터닝 (Patterning) 및 검사 (Inspection) 기능에서 매우 정밀하고 세밀하게 처리해야 하는 모든 웨이퍼 (Wafer) 제조 프로세스에 필수적인 도구입니다.