판매용 중고 NANOMETRICS NanoSpec AFT 5100 #9266970

NANOMETRICS NunSpec AFT 5100 마스크 및 웨이퍼 검사 장비는 반도체 제조를 위해 설계된 자동화된 고해상도 도량형 도구입니다. Nano Spec AFT 5100은 질적이고 정량적인 기능을 갖춘 패턴을 정확하고 안정적으로 검사하기위한 일반 패턴 인식 시스템 (General Pattern Recognition System) 을 갖추고 있습니다. 또한 고급 현미경 광학 모듈로 구성되며, 이 모듈은 < 50nm 이상의 해상도로 다중 패턴 z 높이 및 표면 매개변수를 정확하게 측정 할 수 있습니다. 이 장치의 자동 도량형 기능을 통해 설치가 쉽고 간편한 고속 (high-speed) 및 높은 정확도 (high-accuracy) 패턴 검사를 수행할 수 있습니다. 이 기계는 브라이트 필드 (brightfield), 다크 필드 (darkfield), 편광 조명 (polarized lumination) 등 다양한 이미징 기술을 제공하여 다양한 청결 응용 프로그램에 향상된 이미지 기능을 제공합니다. 여기에는 다양한 구조 인터페이스에 최적화된 매크로/마이크로 구조 조명 모듈 (macro-/micro-structure illumination module) 이 포함되어 이미지 품질이 향상되고 세부적인 분석이 가능합니다. 또한, 이 도구는 스크래치, 브레이크 (break), 선 너비 (line width) 의 정확한 정량화를 위해 테스트 모서리 세부 사항을 지능적으로 감지하고 마스크하는 고유한 알고리즘을 갖추고 있습니다. 자산은 또한 결함 크기와 위치를 정확하게 측정 할 수 있으며, 자동 결함 수리를 위한 기술인 고급 마스크 수리 (Advanced Mask Repair) 도 지원합니다. 다양한 색상 이미지와 3D 옵티컬 섹션의 대조 균일성을 보장하기 위해 멀티 컬러 오버레이 교정을 제공합니다. NANOMETRICS Nano Spec AFT 5100은 직관적이고 사용자 친화적 인 소프트웨어와 함께 제공되며, 이를 통해 사용자는 모델을 쉽게 제어하고, 실시간으로 테스트 결과를 관찰하고, 측정 매개변수를 선택, 설정 및 최적화하고, 데이터를 내보낼 수 있습니다. 게다가, 장비에는 측정 데이터를 저장하기 위한 내장 데이터베이스 (내장) 가 포함되어 있는데, 이 데이터베이스는 나중에 쉽게 액세스할 수 있습니다. 요약하면, Nano Spec AFT 5100 Mask & Wafer Inspection System은 반도체 제조를위한 효율적인 도량형 도구이며, 마스크와 웨이퍼를 쉽고 정확하게 검사하기위한 독특한 기능 세트를 제공합니다. 다양한 이미징 기술, 멀티 컬러 오버레이 수정, 고급 마스크 복구 기능 등을 제공하여 측정 정확도를 높입니다. 이 장치는 또한 직관적인 사용자 친화적 그래픽 사용자 인터페이스 (graphical user interface) 를 제공하여 쉽게 작동하고 고정밀 도량형 결과를 얻을 수 있습니다.