판매용 중고 NANOMETRICS NanoSpec AFT 4000 #9024521

ID: 9024521
웨이퍼 크기: 3"-8"
Film thickness measurement system, 3"-8" Capable of accommodating wafers from 75mm to 200mm Olympus 5x, 10x, and 50xULWD objectives Olympus 10x eyepiece System Computer and Software Visible Single Layer Films: 500 – 50,000A UV Single Layer Films: 25 – 500A Visible Double (Top) Layer Films: 100 – 30,000A Visible Double (Bottom) Layer Films: 500 – 50,000A -Single Layer Thick Films Visible: 4 – 75 um Reflectance Visible: 400 – 850nm Oxide on Poly UV: 150 – 10,000A Oxide on Metal Visible: 3,000 – 20,000A Oxide on Metal UV: 500 – 5,000A Operator Manual and Documentation.
NANOMETRICS Nano Spec AFT 4000은 고급 마스크 및 웨이퍼 검사 장비로, 반도체 장치에 대한 고품질 자동 테스트를 제공하도록 설계되었습니다. 이 시스템은 자동 집중 이온 빔 (FIB) 기술을 사용하여 이미징 및 분석 작업을 모두 수행합니다. 이로써 마스크· 웨이퍼의 물리적 특성, 지형· 구성· 상호연결성· 석판적 특성 등을 측정하고 분석할 수 있다. NANOMETRICS NANOSPEC/AFT 4000은 세 가지 주요 섹션으로 구성됩니다. 첫 번째는 고해상도 지멘스 MAGNA 3 축 검출기와 강력한 현미경 기능을 포함하는 검사 장치 (Inspection Unit) 입니다. 이를 통해 기계는 배율 (Magnification) 에서 가장 작은 피쳐를 정확하게 감지하고 해결할 수 있습니다. 두 번째는 이중 이온 소스 도구를 사용하는 FIB 소스입니다. 이것은 정확한 이미징 및 분석을 위해 통제 된 이온 용량을 제공합니다. 마지막으로 에셋에는 분석 및 검토 인터페이스가 통합되어 있습니다. 따라서 각 테스트 결과를 손쉽게 모니터링하고 평가할 수 있습니다. Nano Spec AFT 4000에는 고유한 몇 가지 기능이 있습니다. 첫째, 처리량 (throughput) 단계가 높아 다중 마스크 및 웨이퍼 시트 (wafer sheet) 를 단일 패스로 동시에 테스트할 수 있습니다. 이렇게 하면 프로세스 속도가 크게 빨라지고 처리 시간이 크게 단축될 수 있습니다. 또한, 이 모델은 매우 정확하고 반복 가능하며, 사용자는 매번 신뢰할 수있는 결과를 얻을 수 있습니다. 이 장비에는 안전 기능도 내장되어 있습니다. 여기에는 오염을 예방하는 데 도움이되는 진공 시스템 (vacuum system) 과 전기 충전 (electrical charge) 의 위험을 줄이기 위한 정적 방지 메커니즘이 포함됩니다. 또한, 이 장치는 지형과 컴포지션을 동시에 측정하여, 효율성을 최적화하는 종합적인 결과를 제공합니다. NANOSPEC/AFT 4000은 다재다능하고 사용자 정의 가능한 기계입니다. 따라서 이미징, 전기 화학, 증착, 마스크 웨이퍼 (mask-wafer) 준비 등 여러 응용 프로그램에 맞게 구성 될 수 있습니다. 집적 회로 (integrated circuits) 에서 인쇄 회로 (printed circuit) 기판에 이르기까지 다양한 산업에서 사용하도록 설계되었습니다. 고온· 습도 환경에서도 정확성을 유지할 수 있다. 생산환경도 다양하다. 고온· 습도환경은 고도· 습도환경이 맞다.
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