판매용 중고 NANOMETRICS NanoSpec AFT 210UV #9160099
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ID: 9160099
웨이퍼 크기: 4"
Film thickness measurement system, 4"
Stage: 4" wafers
Range of Thickness: 100 to 500,000 angstroms
Spot size: 50 um with 5x objective
25 um with 10x objective, 6.5 um with 40x objective
Objectives: Olympus MS Plan 5, MS Plan 10, ULWD MS Plan 50
Optional objectives: Olympus M5X and M100X
Film types:
Oxide on Silicon
Nitride on Silicon
Negative resist on Silicon
Poly silicon on Oxide
Negative resist on Oxide
Nitride on Oxide
Polyimide on Silicon
Positive resist on Silicon
Positive resist on Oxide
Reflectance mode:
Thick films, reproducibility: 5A ± 5% depending upon the film type
Typical measurement time: 2.5 seconds
Typical measurement time in UV mode: 10 seconds.
NANOMETRICS Nano Spec AFT 210UV는 최고 수준의 검사 정확성을 위해 설계된 최첨단 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 이 시스템은 고급 광학 (optic) 과 디지털 이미징 (digital imaging) 기술을 컴퓨터 제어 스캐닝 장치와 결합하여 최고 수준의 검사 정확도를 제공합니다. AFT 210UV는 50 나노미터 미만의 해상도에서 이미지 분석, 결함 분석, 결함 크기 및 결함 매핑을 제공합니다. 이 기계에는 2 개의 선형 스캔 단계, 1 개의 아연 도금 검사 단계 및 1 개의 신중한 스캔 단계가 포함되어 있어 다양한 스캔 매개변수와 해상도를 생성합니다. 신중한 스캔 단계에는 최대 10nm 해상도와 ~ 10mm2 시야가 있습니다. 3 단계 모두 12 메가 픽셀 (12 메가 픽셀) 카메라와 결합되어 매우 빠른 속도와 정확도로 이미지를 얻을 수 있습니다. 또한이 도구에는 16 비트 DSP (Digital Signal Processor), FPGA (Field Programmable Gate Array) 및 이미지 캡처, 결함 발견 및 분석을 병렬로 수행하는 마이크로 컨트롤러가 포함됩니다. AFT 210UV 의 옵티컬 엔진 (Optical Engine) 은 가장 까다로운 검사 어플리케이션을 위해 고효율과 고해상도를 제공하도록 설계되었습니다. 고급 옵틱을 사용하면 색상, 게인, 초점, 라이브 뷰 및 양극화와 같은 이미징 기능도 사용할 수 있습니다. AFT 210UV에는 고급 소프트웨어 및 알고리즘이 장착되어 있어 자동 검사를 수행할 수 있습니다. 고급 분석 (Advanced Analytics) 및 이미지 처리 알고리즘을 사용하여 웨이퍼와 마스크에서 작은 결함을 감지 할 수 있습니다. 에셋은 또한 웨이퍼 또는 마스크에서 결함을 정확하게 식별, 분류, 카운트, 크기 및 매핑하는 고급 결함 분석 알고리즘을 제공합니다. 전반적으로 Nano Spec AFT 210UV는 강력하고 신뢰할 수있는 마스크 및 웨이퍼 검사 도구입니다. 정밀 광학, 초고속 이미징, 고해상도 (High Resolution) 및 고급 이미징 알고리즘의 독특한 조합을 통해 최고 수준의 검사 정확도를 제공합니다. 이 모델은 고급 웨이퍼 (wafer) 및 마스크 제조 공정 (mask manufacturing process) 작업을 수행할 때 중요한 결정을 내리는 데 이상적입니다.
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