판매용 중고 NANOMETRICS NanoSpec AFT 2100 #96637

NANOMETRICS Nano Spec AFT 2100은 종합적인 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 이 시스템은 고급 스캐닝 (Scanning) 및 이미징 (Imaging) 기술을 사용하여 반도체 제작 프로세스에 사용되는 마스크 및 웨이퍼의 미세한 결함을 감지할 수 있습니다. 이 장치는 또한 자동 결함 분류 (Automated Defect Classification) 를 제공하여 검사관이 대용량 장치의 결함을 빠르고 정확하게 식별하는 체계적인 프로세스를 제공합니다. AFT 2100은 가시 광선을 사용하여 마스크와 웨이퍼의 미세한 결함을 감지하고 분석합니다. 매우 민감한 광학 헤드 (optical head) 와 더 밝은 입사 광원을 가지고 있으며, 복잡한 토폴로지를 정확하게 표현하고 고속 검사를 가능하게합니다. 이 기계는 또한 스펙트럼 분석을 통합하여 공백, 오염 물질, 균열 등 다양한 결함에서 스펙트럼 반사율 (spectral reflectance) 의 미세한 차이를 감지 할 수 있습니다. AFT 2100 은 최첨단 이미지 처리 알고리즘과 사용자 친화적 이미지 분석 툴을 갖추고 있어 결함을 신속하게 파악할 수 있습니다. 개별 결함을 자동으로 분류하고 중요도를 결정할 수 있습니다. 이 도구에는 시스템 결함을 식별하는 무결성 계산기가 내장되어 있습니다. 또한 자동 수율 요약 및 분석 (automated yield summary and analysis) 기능을 제공하여 대규모 웨이퍼 및 마스크 수율을 쉽게 분석할 수 있습니다. AFT 2100에는 매우 효율적인 결함 제거 자산도 포함되어 있습니다. 이 모델은 검사관의 결함 감소 (Defect reduction) 를 지원하여 결함을 빠르고 정확하게 식별하고 근절하여 제조 된 웨이퍼 (Wafer) 와 마스크 (Mask) 의 전반적인 품질을 높입니다. 게다가, 이 장비 는 시험 받은 "웨이퍼 '의" 이미지' 를 신속 히 평균 할 수 있어 검사 와 분석 을 위한 총 시간 을 줄일 수 있다. AFT 2100은 신뢰할 수 있고 다양한 마스크 및 웨이퍼 검사 시스템입니다. 정확성, 속도 및 사용 편의성을 제공합니다. 이 제품은 마스크 및 웨이퍼 (wafer) 의 결함을 파악하고 제거할 수 있는 효율적이고, 효과적이며, 비용 효율적인 솔루션을 제공합니다. 심해 (deep imaging) 해상도, 스펙트럼 분석, 결함 식별, 분류 및 무결성 계산기의 조합으로 반도체 제조업체에게는 귀중한 도구입니다.