판매용 중고 NANOMETRICS NanoSpec AFT 210 #9197546

NANOMETRICS Nano Spec AFT 210은 고급적이고 효율적인 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 필름, 패턴 마스크, 사진 해체 (photolithography) 웨이퍼의 결함을 식별하고 관리하도록 설계된 반자동 시스템입니다. AFT 210 은 고급 이미지 처리 (advanced image processing) 및 분석 (analysis) 알고리즘을 사용하여 마스크와 웨이퍼 모두에서 중요한 검사 가능 기능의 이상이나 결함을 감지합니다. 선 너비, 임계 치수, 결함 기준, 피쳐 구성과 같은 피쳐를 자세히 조사할 수 있습니다. 이 장치에는 CCD 카메라, 밝고 대조적인 조명, 독점적 인 이미징 소프트웨어가 장착되어 있어 정확하고 안정적인 결과를 얻을 수 있습니다. "머신 '은 필요 에 따라 여러 가지 검사 를 하도록 설계 되었다. 자동화된 기능 및 결함 검사, 시각적 검사, 마스크 에지 대칭 및 분석, 얼굴 편평도 측정이 모두 지원됩니다. 검사 결과는 사용자에게 친숙한 보고서 형식으로 자동으로 컴파일되므로, 고객은 품질 관리 (Quality Control) 표준에 따라 쉽게 검토하고 결과를 정량화할 수 있습니다. AFT 210 은 검사 프로세스 자동화 외에도 강력한 추출 툴 (Extractions Tools) 을 제공하여 결과를 분석합니다. 여기에는 photomontage 비교, 웨이퍼 패턴 피쳐 평가 및 데이터 분석 도구가 포함됩니다. X-Y 플롯 (X-Y plot), 패라메트릭 분석 (parametric analysis), 통계 요약 (statistics summary) 과 같은 도구는 검사된 기능에 대한 자세한 정보를 제공하여 사용자가 장비의 성능에 대해 교육받은 결정을 내리고 적절한 수정 조치 계획을 수립할 수 있도록 합니다. 이 툴은 고객의 요구 사항에 맞게 확장할 수 있는 기능을 자랑합니다. 고급 자동화 및 자산 상호 접속성은 다양한 요구 사항에 맞게 조정할 수 있습니다. AFT 210 모델은 모든 주요 CMOSb 및 최첨단 기술을 포함하여 다양한 필름, 마스크 및 photolithography 웨이퍼를 수용 할 수 있습니다. 또한 자동 연결 지원 (Automated Connectivity Support) 을 통해 다른 주변 장치와의 상호 운용성을 향상시킬 수 있습니다. 마지막으로, AFT 210은 엄격한 업계 인증 및 국제 표준을 준수하여 최적의 기능과 성능을 보장합니다. 시공과 첨단 기술로 대용량 제작라인과 연구개발 (R&D) 실험실에 이상적이다.