판매용 중고 NANOMETRICS NanoSpec AFT 200 #9004058

NANOMETRICS NenSpec AFT 200은 NANOMETRICS에서 생산 한 고급 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 마스크 및 웨이퍼의 결함 및 기타 불규칙성을 서브 미크론 정밀도로 감지하도록 설계되었습니다. 고급 광학 기술 (Optical Technologies) 의 독특한 조합으로 복잡한 나노 구조의 정확한 이미지를 만들 수 있으며, 자동 스캐닝 (Scanning) 및 처리 기능을 통해 높은 처리율을 제공합니다. AFT 200의 주요 구성 요소에는 주요 광학 장치, 광범위한 시야각 (angle of view detector) 및 통합 이미징 소프트웨어가 포함됩니다. 주요 광학에는 다양한 객관적인 확대, 레이저 빔, 백반사 감지 (back-reflection detection) 용 광학 (optics) 이 포함되어 있어 모든 마스크 또는 웨이퍼의 고품질 이미지를 생성 할 수 있습니다. 또한 높은 조리개 (aperture) 와 짧은 작업 거리 (working distance) 를 통해 시스템은 다양한 샘플 크기를 수용할 수 있습니다. 광시야각 (wide angle of view) 검출기는 고해상도와 대비를 통해 샘플의 정확한 이미지를 캡처하는 데 사용됩니다. 조명 소스, 수치 조리개 목표 및 CCD 카메라로 구성됩니다. 이렇게 하면 대용량 (large) 및 소용량 (small details) 이 모두 포함된 이미지를 캡처할 수 있으므로 가장 복잡한 샘플에서도 매우 유연하게 사용할 수 있습니다. 마지막으로, 통합 이미지 처리 (Integrated Imaging) 소프트웨어를 사용하면 캡처된 이미지에 대해 정교한 이미지 처리 및 결함 분석을 수행할 수 있습니다. 이 소프트웨어는 다양한 단계의 이미지 분석 (image analysis) 을 자동화하여 이미지에 대한 빠르고 정확한 분석, 불규칙한 패턴이나 결함의 감지 (detection) 를 가능하게 합니다. 따라서 NANOMETRICS AFT 200은 서브 미크론 정밀도로 마스크와 웨이퍼를 검사하기위한 강력하고 신뢰할 수있는 기계입니다. 광학 (Optic) 과 이미징 (Imaging) 의 다양한 기술을 통해 다양한 샘플 크기를 수용하고 정확한 결함 분석을 제공할 수 있습니다. 자동 스캐닝 (Scanning) 및 처리 (Processing) 기능도 높은 처리율을 제공하여 모든 마스크 및 웨이퍼 검사 도구에 귀중한 도구입니다.