판매용 중고 NANOMETRICS NanoSpec 9300 #9241417

NANOMETRICS Nano Spec 9300은 NANOMETRICS, Inc.에서 개발 한 차세대 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 이 시스템은 첨단/최첨단 기술을 위한 고품질 선형 (linear) 및 2D (2D) 검사를 제공하여 중요한 프로세스를 모니터링하고 탁월한 정확도로 결함을 확인할 수 있습니다. Nano Spec 9300은 독자적인 광학 이미징 플랫폼을 강력한 맞춤형 하드웨어, 애플리케이션별 알고리즘, 정교한 분석 (analytics) 과 통합하여 초고속 처리량 패턴 검토를 제공합니다. 이 장치는 EUV (Extreme Ultraviolet) 또는 EDUV (Extreme Deep-UV) 리소그래피와 같은 고화질 리소그래피 및 패턴 화 된 웨이퍼 응용 프로그램에 사용하도록 설계되었습니다. NANOMETRICS Nano Spec 9300은 통합 광학 도량형, 결함 감지, 자동 웨이퍼 및 마스크 정렬, 종합적인 문서 및 보고 기능을 갖춘 마스크 및 웨이퍼 검사를위한 다양한 도구 세트를 제공합니다. 이러한 기능을 결합하면, 프로세스 개발 과정에서 사용자가 최고의 유연성과 제어를 할 수 있게 되어, 고정밀 이미징 (high-precision imaging) 및 결함 감지 (defect detection) 기능을 사용할 수 있습니다. Nano Spec 9300은 맞춤형 이미징 플랫폼으로 구동되며, 대화형 패턴 식별과 상세한 결함 분석을 위한 광범위한 기능을 제공합니다. 이 기계는 5발의 레이저 헤드 (laser head) 를 갖추고 있으며, 최대 해상도를 제공하며, 상세한 이미징 및 분석을 위해 평균 픽셀 크기가 1.2nm입니다. 이 도구의 고해상도 광학 센서는 자동 패턴 매핑 (automated pattern mapping) 과 종합적인 결함 검사를 가능하게 하는 고감도 (high-sensitivity) 검출기 픽셀 배열을 제공합니다. NANOMETRICS Nano Spec 9300은 또한 강력한 응용 프로그램 별 알고리즘을 갖추고 있으므로 마스크 (mask) 및 포토 마스크 (photomask) 결함을 신속하게 식별하여 생산 주기 초기에 필요한 수정 조치를 취할 수 있습니다. 또한, 자산은 다양한 자동 웨이퍼 검사 툴 (Automated Wafer Inspection Tools) 과 포괄적인 보고/문서 기능을 제공하여 프로세스를 실시간으로 모니터링하고 주요 성능 지표를 추적할 수 있습니다. 마지막으로, Nano Spec 9300 은 다양한 맞춤형 구성 기능을 제공하므로 다양한 운영 프로세스를 위한 다양한 플랫폼 (platform) 이 됩니다. 이 모델은 매개변수 최적화를 위한 독자적인 소프트웨어 도구 (software tools for parameter optimization) 를 갖추고 있어 운영 환경의 개별 요구에 맞게 검사 프로세스를 조정할 수 있습니다. 이 장비는 또한 여러 산업 표준 (Industry Standard) 에 대한 동시 지원을 지원하므로 여러 운영/개발 프로세스에 동일한 플랫폼을 사용할 수 있으며, 소중한 시간과 자원을 절감할 수 있습니다.