판매용 중고 NANOMETRICS NanoSpec 9000 #9217361

NANOMETRICS Nano Spec 9000은 최고의 보고 기준 (정확도 및 속도) 을 충족하도록 설계된 고성능 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 이 시스템은 고급 알고리즘 (advanced algorithms) 과 정밀한 광학 (optics) 을 사용하여 마스크와 웨이퍼의 선명한 이미지를 제공하여 중요한 구조 피쳐를 심층적으로 검사하고 분석 할 수 있습니다. 이 장치는 또한 웨이퍼 (wafer) 와 마스크 (mask) 를 자동으로 처리하여 높은 처리량을 제공하는 빠르고 효율적인 샘플 변경 속도를 제공합니다. Nano Spec 9000의 스캔 면적은 30mm, 시야는 4mm이며, 서브 미크론 이미지 정확도입니다. 이 기계는 이미지 캡처를위한 5 x 줌, 0.5 x 매크로 및 1 x 렌즈를 포함하여 다양한 광학을 갖추고 있으며, 동적 범위가 증가하는 고해상도 이미지를 사용할 수 있습니다. 통합된 광도 측정 도구 (Photometric Measurement Tool) 는 정확하고 반복 가능한 광원 측정을 보장하며, 자동 초점 에셋은 선명하고 선명한 이미지를 보장하여 탁월한 수준의 디테일과 선명도를 제공합니다. NANOMETRICS Nano Spec 9000에는 이미지의 색조 범위를 조작 할 수있는 선택 가능한 대비 부스트도 있습니다. 또한 몇 가지 이미지 포스트 프로세싱 옵션을 통해 사용자가 Nano Spec 에서 이미지를 정확하게 향상시킬 수 있습니다. 이 모델은 또한 이미지 필터링, 그래프 생성, 객체 인식 등 강력한 데이터 분석 기능을 제공합니다. 전반적으로 Nano Spec 9000은 가장 까다로운 마스크 및 웨이퍼 검사 어플리케이션을 위해 설계된 고급 장비입니다. 고해상도 작동, 자동 처리, 통합 초점/명암비 조정 및 고급 이미지 사후 처리 기능을 갖춘 NANOMETRICS Nano Spec 9000은 품질 보증 및 수율 관리에 완벽한 선택입니다.