판매용 중고 NANOMETRICS NanoSpec 6100X #9223292

나노 메트릭 (NANOMETRICS) Nano Spec 6100X는 반도체 산업의 진화하는 요구를 해결하기 위해 설계된 주요 마스크 및 반도체 웨이퍼 검사 장비입니다. 고성능 이미징, 이미지 처리, 분석 기능의 조합으로, 웨이퍼 및 마스크 평가에서 최고의 정확성을 제공합니다. Nano Spec 6100X는 품질 관리 (Quality Control), 형상 검사 (Geometry Inspections), 광원 분광법 (Light Spectroscopy) 등 다양한 검사 기능 중에서 선택할 수 있습니다. 품질 관리에서, Nano Spec은 모든 일반적인 반도체 프로세스 불규칙성을 포함하여 다양한 미묘한 결함을 감지 할 수 있습니다. 형상 검사는 형태 감지, 코너 매핑, 선 너비 측정 등 새로운 기능으로 업그레이드되었습니다. NANOMETRICS Nano Spec 6100X는 높은 정밀도로 얇고 두꺼운 필름을 측정하기위한 향상된 광 분광법 기능을 제공합니다. Nano Spec 6100X에는 고해상도 고속 이미징 시스템이 있습니다. 따라서 신속한 구입 및 이미지 처리 시간으로 결함을 정확하게 감지할 수 있습니다. 고해상도 카메라를 사용하면 가장 작은 기능과 결함까지 심층적으로 분석 할 수 있습니다. 이 장치는 또한 고급 이미지 처리 (advanced image processing) 기능을 통해 미묘한 결함을 파악하고 상세한 검사를 위해 시각화 할 수 있습니다. NANOMETRICS NenSpec 6100X는 photomask, optical micro-lithography, photoresist 및 기타 업계 표준 기판을 포함한 다양한 샘플 유형을 지원합니다. 또한 자동화된 운영 및 데이터 내보내기 (data export) 기능을 통해 사용자가 처리량을 향상시키고 효율적인 작업을 수행할 수 있도록 설계되었습니다. 최적의 성능을 위해 Nano Spec 6100X는 일부 특수 액세서리를 사용합니다. 이러한 액세서리에는 옵션 편광, 필터 휠, 스테이지 및 렌즈 동력화, 샘플 변경을 자동화하는 로봇 공학이 포함됩니다. 이러한 액세서리를 사용하면 도구를 특정 요구에 맞게 사용자정의하고 결과 분석 (analysis) 을 작업 (task) 에 맞게 조정할 수 있습니다. 또한 자산과 함께 제공되는 소프트웨어는 고급 SEM 호환성, 자동화 기능, 익스포트 기능, 데이터 사후 처리 분석 등을 제공합니다. 요약하면, NANOMETRICS Nano Spec 6100X는 반도체 업계에서 가장 높은 표준을 충족하도록 설계된 강력하고 다양한 마스크 및 웨이퍼 검사 모델입니다. 고해상도 이미징, 이미지 처리 (image processing), 분석 (analysis) 기능이 결합되어 반도체 분석 및 프로세스 검사에 이상적인 솔루션이 됩니다.