판매용 중고 NANOMETRICS NanoSpec 6100 #9282618

NANOMETRICS Nano Spec 6100은 나노 센서 제조 (Nanosensor Manufacturing) 의 중요한 프로세스를 가르치고 수행하는 데 있어 최고 수준의 정확성과 신뢰성을 제공하도록 설계된 고급 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 이 시스템을 사용하면 반도체 어플리케이션을 위해 안정적이고 비용 효율적인 마스크 (mask) 와 웨이퍼 (wafer) 를 만들 수 있습니다. Nano Spec 6100은 고해상도 시각화, 향상된 작동 속도, 완전 자동 이미지 분석을 사용하여 지름 50 나노미터의 작은 개별 기능을 감지하고 분류합니다. 이렇게 하면 마스크 및 웨이퍼를 검사할 때 높은 수준의 정확도와 일관성 (Consistency) 을 얻을 수 있습니다. 이 장치는 수직 병합된 스테레오 이미지에서 전체 이미지를 캡처할 수도 있습니다. 즉, 3D 마스크를 검사하는 데 특히 유용합니다. 완전 자동 이미지 분석 (Fully Automated Image Analysis) 기능을 통해 마스크 (Mask) 와 웨이퍼 (Wafer) 를 철저히 검사하기 위해 이미지의 대비를 효과적으로 개선하고 아티팩트를 제거할 수 있습니다. 게다가, 이 도구는 필요에 따라 신속하게 오류를 인식하고 교정 대책을 구현할 수 있습니다. 에셋은 와이어 본딩, 패드, 포메이션 경유, 포토 리토 그래피, 미세 회로 추적 등 다양한 전기 및 광학 디자인을 분석하는 데 사용될 수 있습니다. 이것은 강력한 소프트웨어 기능을 통해 가능해졌으며, 이를 통해 디자인의 2D 및 3D 특성을 모두 처리 할 수 있습니다. 또한 모델을 다양한 웨이퍼 형상 (wafer geometries) 과 설계 유형 (design style) 과 함께 사용할 수 있습니다. 또한 NANOMETRICS Nano Spec 6100 (Nanometrics Nano Spec 6100) 은 사용이 간편하고 직관적인 작업으로, 연산자가 해당 기능을 빠르게 탐색할 수 있게 해 줍니다. 이 장비는 고속 처리 장치 (High Speed Processing Unit) 로 구동되며, 최소한의 지연으로 대규모 데이터 세트 분석을 처리할 리소스가 있습니다. 전반적으로 Nano Spec 6100은 마스크 및 웨이퍼 디자인을 검사하기위한 고급, 정확하고 안정적인 시스템입니다. 직관적 인 사용자 인터페이스와 직관적인 50 나노미터 (50 nanometer) 정도의 작은 기능을 신속하게 감지하고 분류하는 기능을 갖춘 이 장치는 고품질, 신뢰성 있는 나노 센서 (nanosensor) 생산이 필요한 고객에게 이상적인 도구입니다.