판매용 중고 NANOMETRICS NanoSpec 6100 #9160218

NANOMETRICS Nano Spec 6100 마스크 및 웨이퍼 검사 장비는 다양한 마스크 및 웨이퍼를 검토 및 검사하는 데 강력한 도구입니다. 이 기계는 효율이 높고, 나노미터 내에서 피쳐를 정확하게 측정하고, 실시간 피드백을 제공하도록 설계되었습니다. 이 시스템은 고해상도 이미징을 위한 고급 광학 플랫폼 (Optics Platform) 과 구조를 식별하고 분석하는 향상된 대비를 갖추고 있습니다. 이것은 높은 배율, 매우 민감한 적외선 카메라 및 픽셀 정확한 포인팅이있는 최첨단 원격 중심 레이저 노출 장치 (state-of-the-art telecentric laser exposure unit) 로 구성됩니다. Optics는 결함, 브리징, 명암비 등의 기능을 쉽게 식별하고 분석할 수 있도록 설계되었습니다. 이 기계는 또한 처리량을 높이기 위해 검사 (inspection) 및 분석 (analysis) 속도를 향상시키도록 설계되었습니다. Nano Spec 6100에는 직관적인 사용자 친화적 소프트웨어가 장착되어 있으며, 성능을 최적화하고 효율성을 향상시키도록 설계되었습니다. 그래픽 사용자 인터페이스를 사용하면 검사 영역의 설정, 보정, 마스크, 표본 선택, 매개변수 입력, 탐색 등을 쉽게 수행할 수 있습니다. 자동 측정 기능과 강력한 포스트 프로세싱 모듈 (post-processing module) 을 통해 신속한 분석 및 데이터 저장 기능을 제공합니다. NANOMETRICS Nano Spec 6100은 또한 다양한 고급 입출력 장치 (input and output device) 와 호환되도록 설계되어 있어 기존 운영 라인 및 워크플로우 시스템에 쉽게 통합할 수 있습니다. 또한 고급 하드웨어 (Advanced Hardware) 및 알고리즘을 통해 설계되었으며, 빠른 속도로, 최소한의 다운타임으로 검사를 수행할 수 있습니다. 또한, 자동 (automated) 기능은 품질 관리 프로세스를 최적화하는 데 도움이되며, 신속하게 결함을 식별하고 해결하는 데 사용될 수 있습니다. 결론적으로, Nano Spec 6100은 고해상도와 정확성을 위해 설계된 고급 마스크 및 웨이퍼 검사 도구입니다. 최첨단 정밀도 (precision optic), 단순한 사용자 인터페이스 (user interface), 자동화된 기능 (automated feature), 쉽게 사용할 수 있는 입력 및 출력 장치는 다양한 상황과 모든 유형의 검사에 적합합니다.