판매용 중고 NANOMETRICS NanoSpec 6100 #9105595

NANOMETRICS Nano Spec 6100은 고성능 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 자동 마스크 (mask) 및 필름 검사 기능을 갖춘 유연한 디자인이 적용된 프로덕션 또는 실험실 설정에 사용하도록 설계되었습니다. 이 시스템은 고해상도 CCD 카메라, 레이저 회절 광학, 자동 검사 단계를 포함한 고급 기술을 사용합니다. "카메라 '는 검사 구역 을 밝고 명백 히 볼 수 있게 해 주며, 연산자 들 이 신속 하고 정확 하게 표본 을 분석 할 수 있게 해 준다. 레이저 회절 광학은 나노 미터 수준에서도 정확한 측정을 보장합니다. 또한 자동 검사 (automated inspection) 단계를 통해 운영자는 마스크와 필름을 신속하게 검사하여 정렬 정확성과 품질 제어를 보장할 수 있습니다. Nano Spec 6100에는 데이터 관리 및 분석을위한 고급 소프트웨어 도구도 있습니다. 소프트웨어 패키지는 CAD (Computer-Aided Design) 에 대한 이진 입력 (Binary Input for Computer-Aided Design), CAD 용 사용자 정의 드로잉 파일, 데이터 가져오기 및 내보내기 등의 다양한 데이터 유형을 지원합니다. 또한 배치 처리 (Batch Processing) 를 지원하므로 여러 마스크와 필름을 빠르고 쉽게 처리 할 수 있습니다. NANOMETRICS Nano Spec 6100 은 통합된 하드웨어/소프트웨어 툴을 포함하며, 완벽하게 자동화된 방식으로 작동하도록 설계되었습니다. 다양한 소프트웨어 알고리즘을 사용하여 마스크 및 웨이퍼 검사 작업을 자동화합니다. 이 장치의 고급 소프트웨어 툴 (advanced software tools) 은 직관적인 사용자 인터페이스를 통해 작업을 단순화하므로 마스크와 웨이퍼를 빠르고 쉽게 처리할 수 있습니다. 또한 통합 웨이퍼 관리 (Wafer Management) 및 데이터 분석 기능을 통해 처리율을 높일 수 있습니다. Nano Spec 6100은 반도체 제조, 석판화 공정 엔지니어 및 연구 개발 실험실에 이상적인 솔루션입니다. 이 툴은 정확하고, 안정적이며, 재현이 가능한 데이터를 제공하여, 정확한 구성 모니터링 및 제어를 가능하게 합니다. 또한 마스크 정렬, 패턴 왜곡 (pattern distortion) 및 기타 결함과 관련된 문제를 신속하게 식별할 수 있습니다. 또한, 자산의 유연성과 효율성을 통해 다양한 응용 프로그램 (application) 과 샘플 (sample) 크기에 맞게 조정할 수 있습니다.