판매용 중고 NANOMETRICS NanoSpec 6100 #9021098

NANOMETRICS Nano Spec 6100은 고급 광학 이미징 기능을 사용하여 반도체 마스크 및 웨이퍼를 검사 할 때 사용 가능한 최고 해상도의 이미징을 제공하는 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 이 시스템은 마스크 및 웨이퍼 검사 (Wafer Inspection) 를 위한 완벽한 솔루션을 제공하여, 활성 웨이퍼 구성 프로세스 동안 설계 정확성과 규칙 준수를 빠르고 쉽게 검증할 수 있습니다. Nano Spec 6100에는 LSCM (laser scanning confocal microscopy) 및 PPCM (point-projected 3D confocal microscopy) 을 포함한 다양한 고급 광학 이미징 시스템이 장착되어 있습니다. 이산화실리콘 (SiO2) 에서 4 인치 에피 기판에 이르는 웨이퍼 유형을 이미지화할 수 있으며, 마스크와 웨이퍼 모두에서 임계 패턴의 고해상도 이미징을 제공 할 수 있습니다. NANOMETRICS Nano Spec 6100에는 자동 검사 도구와 통합하여 마스크 및 웨이퍼 검사 프로세스를 간소화 할 수있는 Arc ~ Link 기능이 있습니다. 이 통합을 통해 다양한 매개변수 자동 업데이트 (automatic update of the varieting parameters) 와 처리된 검사 데이터의 실시간 분석 (real-time analysis) 도 가능합니다. Nano Spec 6100 은 속도 일치 (Speed Matching) 기능을 통해 빠른 처리 속도와 향상된 기기 처리량 신뢰성을 제공하며 샘플 영역 (Sample Area) 변경 또는 결함 시 테스트 범위가 향상됩니다. 이 장치에는 최대 0.1 미크론까지 고도로 개발 된 해상도를 지원하는 고감도 검출기 (high-sensitivity detector machine) 가 있으며, 확대 설정의 정확도는 나노 레벨 정확도로 더욱 향상되었습니다. 또한, 이 도구는 샘플의 잘못된 정렬에도 최적의 마스크 및 웨이퍼 포커스 (wafer focus) 를 허용하는 독특한 더블 포커스 (double focus) 보상 기능을 갖추고 있습니다. NANOMETRICS Nano Spec 6100에는 강력한 처리 엔진이 기본으로 제공되어 이미지 향상을 최적화할 수 있습니다. 이 이미지 향상 (image enhancement) 을 통해 더 세밀한 패턴을 검사하고 광학 인공물을 제거 할 수 있습니다. Nano Spec 6100 은 검사 및 도량형 자산 (metrology asset) 을 결합하여 제작 과정에서 마스크 및 웨이퍼 (wafer) 의 품질을 적극적으로 모니터링할 수 있는 가장 포괄적인 솔루션을 제공합니다. 이 모델에는 다양한 기능이 포함되어 있어, 이미지 형상과 재료를 정확하게 검사할 수 있습니다. NANOMETRICS Nano Spec 6100은 편광 조명 (polarized lighting) 및 여러 수준의 초점 (focus) 과 같은 특수 기술을 사용하여 광학 인공물을 구제합니다. 가장 진보 된 Nano Spec 6100 버전은 M-821-RF 모델로, 81.25 톤 보기의 전체 시야를 갖추고 있으며, 대부분의 마스크 및 웨이퍼 유형에 적용됩니다. 결국 NANOMETRICS Nano Spec 6100은 고급 마스크 및 웨이퍼 검사 장비로, 사용자에게 뛰어난 광학 이미징 기능, 속도 일치, 나노 레벨 정확도 및 강력한 처리 엔진을 제공합니다. 이 시스템은 또한 편광 조명 (Polarized Lighting), 다중 레벨 포커싱 (Multi-Level Focusing) 등 다양한 고급 이미지 개선 옵션을 통해 사용자가 이미지 형상과 재료를 검사할 수 있습니다. Nano Spec 6100 은 사용자에게 통합 검사 및 도량형 장치 (metrology unit) 를 제공함으로써 제조 과정에서 전체 품질의 마스크 및 웨이퍼 (wafer) 를 보다 밀접하고 정확하게 모니터링할 수 있도록 합니다.