판매용 중고 NANOMETRICS NanoSpec 6100 #293795183

나노 메트릭 (NANOMETRICS) Nano Spec 6100은 마스크와 웨이퍼를 동시에 정확하고 효율적으로 검사하도록 설계된 고급 마스크 및 웨이퍼 검사 장비로, 사용자가 두 가지 유형의 가공소재의 결함을 신속하게 식별할 수 있습니다. 이 시스템은 여러 가지 작동 모드를 제공하며 하향식 (Top-down), 하향식 (Bottom-up) 및 하드 마스크 검사 (Hard Mask Inspection) 모드를 지원하므로 높이에 관계없이 결함을 확인하고 검사할 수 있습니다. 광범위한 시청 모드를 통해, Nano Spec 6100 은 웨이퍼와 마스크에 대한 픽셀별 (pixel-by-pixel) 분석을 제공할 수 있으며, 기존의 검사 방법을 사용하여 감지하기 어려운 미묘한 결함을 식별할 수 있습니다. 이 장치에는 명암을 극대화하고 결함 식별을 개선하는 OI (Oblique Illumination) 및 DFI (Dark-Field Illumination) 와 같은 고급 이미징 기능도 포함되어 있습니다. 이러한 피쳐를 사용하여 측벽 결함, 누락된 비아 (vias), 접촉 (contact) 과 같은 다른 조명 기법에서는 볼 수 없는 피쳐와 피쳐를 표시할 수 있습니다. NANOMETRICS Nano Spec 6100 (옵션) 은 자동 빨강, 녹색 및 파랑 ICCD 카메라 이미지 캡처, LED 및 플래시 색상 조명, True Color Edge Detection을 수행할 수 있습니다. 또한 자동화된 도구 싱크로스캔 (synchro-scan), 자동 스캔 주파수 최적화, 대용량 검사용 자동 스티칭 (automatic stiching), 자동 초점 최적화 등 생산성을 극대화하는 다양한 자동 검사 툴이 있습니다. 에셋에는 백사이드 조명 모듈 (옵션), 벡터 궤적 스캔, 자동 결함 보상, 심도 필드 튜닝, 온라인 결함 검토 모듈 등 다양한 고유 기능이 포함되어 있습니다. Nano Spec 6100 은 자동 결함 감지, 분류, 자동 보고서 생성 등과 같은 능률적인 기능을 갖춘 효율적인 워크플로우 (workflow) 를 통해 검사 시간을 줄이고 생산성을 향상시킬 수 있습니다. 이 모델에는 또한 하향식, 하향식, 하드 마스크 검사에 사용할 수 있는 wafer 및 mask 데이터의 종합적인 검토, 분석, 비교를 위한 강력한 데이터 관리 툴이 포함되어 있습니다. NANOMETRICS Nano Spec 6100은 완전히 자동화되고 다양한 마스크 및 웨이퍼 검사 장비로, 생산성을 높이고 정확성을 향상시킵니다. 다양한 이미징 기능과 고급 자동화 툴을 갖춘 Nano Spec 6100 은 웨이퍼 (wafer) 와 마스크 검사 (mask inspection) 를 연결하고 안정적인 수율을 보장하는 데 적합합니다.