판매용 중고 NANOMETRICS NanoSpec 4000 #6696

NANOMETRICS Nano Spec 4000은 반도체 생산 프로세스에 대한 완벽한 적용 범위를 제공하도록 설계된 강력한 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 고급 광학 이미징 기술을 활용한 이 플랫폼은 나노스케일 (Nanoscale) 의 정확성과 반복성을 제공하므로 웨이퍼 (Wafer) 및 마스크 (Mask) 검사를 통해 탁월한 정확도와 속도를 제공합니다. 이 시스템은 2 미크론에서 2 밀리미터 크기의 장치를 검사할 수 있으며, 크기가 10 nm 이하인 피쳐를 감지하고 측정하기 위해 프로그래밍 할 수 있습니다. 코어에서 Nano Spec 4000은 패턴 인식 (pattern recognition) 알고리즘을 사용하여 개별 레이아웃을 검사하여 원하는 레이어와 실제 레이어를 비교하는 자동 마스크 및 웨이퍼 (wafer) 검사 하위 시스템을 갖추고 있습니다. 이 장치는 탁월한 정확도, 반복성 (repeatability) 의 최소 (feature) 크기를 감지할 수 있으며, 자동화된 optic을 사용하면 패턴의 원하는 영역만 선택적으로 평가할 수 있습니다. NANOMETRICS Nano Spec 4000은 또한 여러 표면 지형 매개변수를 캡처, 저장, 분석 및 해석 할 수있는 플랫폼과 함께 고급 측정 기능을 제공합니다. 나노 스케일 정밀도 (nanoscale precision) 를 사용하여 기계는 매우 정확한 표면 측정, 최소/최대 값 및 서피스 거칠기 가능성을 생성 할 수 있습니다. 이 이점은 수직 (vertical) 및 수평 (horizontal) 측정으로 확장되며 제조업체가 웨이퍼 또는 마스크 설계 내에서 발생하는 문제를 정확하게 측정하고 진단하는 데 도움이 될 수 있습니다. 고급 이미지 교정 (Advanced Image Correction) 및 이미지 분석 (Image Analysis) 기능을 통해 마스크와 웨이퍼를 정확하게 정렬할 수 있으며, 실제 색상 광도는 출력된 이미지의 밝고 정확한 색상을 보장합니다. 통합 데이터 입력 (Integrated Data Entry), 하드웨어/소프트웨어 테스트 프로그래밍 및 조정 기능과 더불어 다양한 전문 분석/검토 툴이 제공됩니다. Nano Spec 4000은 오늘날의 고정밀 제조 환경의 품질 관리 및 검사 요구를 충족하도록 설계되었습니다. 정확도 (accuracy) 와 반복성 (repeatability) 의 탁월한 조합은 고급 이미징 (imaging) 및 측정 (measurement) 기능과 결합하여 반도체 생산이 최고 효율로 실행되도록 하는 데 필요한 보증을 제공합니다.