판매용 중고 NANOMETRICS NanoSpec 210 #9374756

NANOMETRICS Nano Spec 210은 최첨단 풀 필드 옵티컬 마스크 및 웨이퍼 검사 장비로, 정확하고 정확한 결함 감지 및 특성화에 고급 이미징 기술을 사용합니다. 이 시스템은 PSI (Phase Shifting Interferometer) 를 기반으로하는 고급 광학 검사 장치를 사용합니다. 이 간섭계 (interferometer) 는 여러 개의 레이저 소스와 고유 한 사분면 미러링 머신을 사용하여 검사중인 마스크 (mask) 나 웨이퍼 (wafer) 에 완전히 일관된 광선을 생성합니다. 그런 다음, 이 도구는 샘플 서피스의 모든 변형이나 결함을 정확하고 정확하게 측정하여, 매우 정확한 스캔 및 검사 결과를 얻을 수 있습니다. 마스크 (Mask) 및 웨이퍼 (Wafer) 검사 에셋은 또한 큰 결함과 작은 결함 모두를 감지하고 정확하게 측정하도록 설계된 고급 이미징 및 제어 알고리즘을 특징으로합니다. 이 알고리즘을 사용하면 모델이 깊은 결함과 얕은 결함을 정확하게 감지하고 매핑할 수 있으며, 이로 인해 손상될 수 있는 결함이 전혀 발생하지 않습니다 (영문). 또한, 이러한 알고리즘은 더 전통적인 검사 시스템에 비해 우수한 마스크 및 웨이퍼 정렬 기능을 제공합니다. NANOMETRICS NANO SPEC 210 장비는 또한 고도의 디지털 이미지 처리 기술을 갖추고 있으며, 이를 통해 8 백만 픽셀 이상의 결함을 정확하게 측정 할 수 있습니다. 이 이미지 해상도 (image resolution) 를 통해 시스템은 높은 충실도 (in-situ) 검사를 수행할 수 있으므로 추가 처리 또는 수정 조치를 취하기 전에 잠재적 결함 영역을 빠르고 정확하게 식별할 수 있습니다. 또한 Nano Spec 210에는 동적 명암비 제어 (dynamic contrast control) 와 같은 몇 가지 다른 기능이 있습니다. 이 컨트롤은 장치 이미지 명암의 자동 제어와 반자동 검사 (semi-automatic inspection) 기능을 지원하므로 연산자의 개입이 최소화됩니다. 또한, 이 기계는 전체 필드 자동 이미지 스티칭 (full-field automated image stitching) 을 지원하여 균일하고 반복 가능한 데이터를 신속하게 수집 할 수 있습니다. 또한, 공구가 잠재적 결함의 위치를 신속하게 파악할 수 있습니다. 결국, NANO SPEC 210은 고급 이미징 기술, 디지털 이미지 처리, 정교한 알고리즘을 활용하여 가장 작은 결함까지도 정확하게 감지하는 고급 마스크 및 웨이퍼 (wafer) 검사 자산입니다. 동적 명암비 제어 (Dynamic Contrast Control) 및 전체 현장 자동 이미지 스티칭 (Automated Image Stitching) 기능을 포함한 모델의 고급 기능을 통해 우수한 검사 결과를 얻을 수 있으며 운영 비용을 크게 절감할 수 있습니다.