판매용 중고 NANOMETRICS NanoSpec 210 #9256979

NANOMETRICS Nano Spec 210 은 반도체 설계 및 리소그래피 (lithography) 전문가들이 가장 까다로운 어플리케이션에 최고 수준의 정확성과 신뢰성을 달성하도록 설계된 강력한 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 이 시스템은 고급 빔 프로파일링 (advanced beam profiling), 초점 현미경 (confocal microscopy), 오버레이 (overlay) 도량형 (overlay metrology) 과 같은 광범위한 검사 기능과 업계 최고 수준의 자동화를 결합하여 오늘날의 고급 장치를 위한 최고의 성능을 제공합니다. 코어에서 NANOMETRICS NANO SPEC 210은 고해상도 5 축 스테이지 유닛으로 구동되며, 전체 작동 표면에서 정확하게 제어 할 수 있습니다. 이 단계는 최대 300mm 크기의 웨이퍼를 지원하고 초당 최대 0.45mm 의 X-Y 속도를 달성 할 수 있습니다. 이 기계는 또한 1664 x 1044 실리콘 CMOS 이미지 센서와 10 배 감소 옵틱을 결합한 고급 이미징 엔진을 사용하여 빠르고 고해상도 이미징을 제공합니다. 이 도구의 빔 프로파일 링 (beam profiling) 기능은 비교할 수 없으며, 다양한 도구를 사용하여 빛의 입사각 (incidence angle) 과 스프레드 (spread) 를 측정하고 특성화합니다. 예를 들어, 에셋은 가변 홍채 (variable iris) 기능을 특징으로, 스캐닝 시 빔의 크기를 조정하여 정밀도를 높일 수 있으며, 대비를 줄이고 노이즈를 줄일 수 있는 편광 조명 (polarized lumination) 기능을 제공합니다. 또한 Nano Spec 210에는 최첨단 오버레이 도량형 (Overlay Metrology) 기능이 있어 고급 석판 기능과 관련된 정렬 및 오버레이 오류를 측정할 수 있습니다. 최대 15 미크론 (Micron) 의 측정 범위와 이동 및 오류를 자동으로 식별할 수있는 피쳐 인식 (Feature Recognition) 알고리즘이이 모델은 정렬 및 중첩 도량형을 바람으로 만듭니다. 마지막으로, 검사 장비는 또한 고해상도 공 초점 현미경을 제공하여 전통적인 현미경의 해상도를 넘어 특징 크기, 자연, 모양을 측정 할 수 있습니다. 이 매우 정확한 이미징 기술을 사용하여 서브 미크론 (sub-micron) 구조와 피쳐를 정확하게 측정할 수 있으며, 이를 통해 사용자는 가장 작은 편차를 감지 할 수 있습니다. 무엇보다도, NANO SPEC 210은 가장 까다로운 반도체 어플리케이션의 엄격함을 충족하도록 설계된 강력한 마스크 및 웨이퍼 (wafer) 검사 시스템입니다. 이 장치는 강력한 이미징 (Imaging) 및 측정 (Measurement) 기능을 통해 최고 수준의 정확성과 신뢰성을 제공하기에 적합합니다.