판매용 중고 NANOMETRICS NanoSpec 210 XP/UV #9105590

NANOMETRICS Nano Spec 210 XP/UV는 자동 정렬과 고해상도 이미징 및 사용자 친화적 인 소프트웨어를 결합하여 빠르고 쉽게 작동 할 수있는 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 이 시스템은 다양한 웨이퍼 (Wafer) 및 마스크 검사 (Mask Inspection) 어플리케이션에 사용하기 위해 설계되었으며, 광범위한 분석 요구 사항에 적합한 탁월한 광학 성능과 유연성을 제공합니다. 이 장치에는 웨이퍼, 마스크, 칩 점검을위한 크고 고해상도 광학 현미경이 있습니다. 현미경은 FOV 75mm, 조정 가능한 배율은 최대 200x입니다. 이 광학은 낮은 수차로 탁월한 이미지 선명도를 제공하도록 설계되었으며, 이는 측정 정확도를 향상시킵니다. 현미경에는 14 비트 동적 범위와 탁월한 색상 감도를 가진 5 메가 픽셀 CMOS 이미징 센서가 있습니다. NANOMETRICS Nano Spec 210 XP/UV는 또한 가장 빠르고 정확한 이미징을 위해 고급 스테이지 스캐닝 머신을 제공합니다. 이 도구는 인덱서가있는 고속 스캐닝 에셋을 특징으로하며, 세 축 (X, Y, Z) 모두에서 정확하고 동시에 이동하도록 설계되었습니다. 인덱서 모터는 최소 진동으로 빠르게 움직이도록 설계되었습니다. 최대 40mm (최대 40mm) 까지 움직일 수 있으며 스캐닝 속도가 200mm/s 이상입니다. 또한 Nano Spec 210 XP/UV 에는 자동 정렬 모델 (자동 정렬 모델) 이 포함되어 있어 웨이퍼 또는 마스크가 모니터의 해당 패턴에 정확하게 배치되고 정렬됩니다. 즉, 각도와 위치가 다른 여러 이미지를 찍을 때에도 성능을 일관되게 유지할 수 있습니다. 이 장비는 또한 데이터 기록 (Data Recording) 기능을 제공하여 추가 분석 및 보고를 위해 이미지와 상세한 측정 값을 컴퓨터에 저장할 수 있습니다. 사용자가 웨이퍼 또는 마스크의 설계 패턴을 빠르고 정확하게 측정할 수 있도록 이 시스템에는 정밀 분석을 위한 내장 OPM (Optical Proximity Measurement) 장치가 포함되어 있습니다. OPM 시스템은 정확한 위치 지정 및 크기 결정으로 최대 100 개의 기능을 측정 할 수 있습니다. 또한 OPM 도구에는 최적의 성능을 위한 고급 패턴 인식 알고리즘이 포함되어 있습니다. 마지막으로, 사용자 친화적 인 소프트웨어 인터페이스 (software interface) 를 통해 자산을 쉽게 제어하고 복잡한 작업을 수행할 수 있습니다. 이 소프트웨어에는 분석 (analysis) 을 사용자 정의하는 다양한 설정과 옵션이 포함되어 있으며, 설계 패턴, 결함 등을 빠르고 정확하게 측정할 수 있습니다. 전반적으로 NANOMETRICS Nano Spec 210 XP/UV는 고급 마스크 및 웨이퍼 검사 모델입니다. 고해상도 이미징, 빠른 스캐닝 단계 (fast scanning stage), 정확한 데이터 기록을 통해 다양한 wafer 및 mask 검사 어플리케이션에 탁월한 성능과 유연성을 제공합니다.