판매용 중고 NANOMETRICS M6100UV #9239646

NANOMETRICS M6100UV는 고정밀 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 고급 이미징 옵틱 (optic) 과 강력한 신호 프로세싱을 결합하여 결함을위한 마스크와 웨이퍼 (wafer) 를 신속하게 분석하고, 사용자 친화적 인 소프트웨어 및 종합적인 데이터베이스 도구에 의해 제어되는 자동 작업 실행 시퀀스 (job execution sequence) 를 제공합니다. 이 시스템의 광학, 동작 제어 시스템, 알고리즘은 탁월한 검출성을 제공하며, M6100UV 는 다양한 검사 응용프로그램에 이상적인 솔루션이 됩니다. NANOMETRICS M6100UV 는 전체 필드 조명을 지원하는 빨간색과 녹색 LED 를 기반으로 하며, 결함 인덱싱을 위한 적외선 채널을 갖추고 있습니다. 카메라는 4k 해상도의 샘플 서피스에서 이미지를 얻는 한편, 최대 180mm (180 mm) 의 최대 시야를 제공합니다. 이 기능을 사용하면 적응적인 속도와 해상도로 샘플을 이동할 수 있으며, 빠른 처리 속도 (fast processing) 와 정확한 스캔 정렬 (scan alignment) 이 가능합니다. 점대점 미러 정렬을 통해 장치가 전체 스캐닝 범위에서 nanoscale 결함을 정확하게 감지할 수 있습니다. 이 기계는 자동 표면 검사, 이미지 로깅, 자동 획득 및 인덱싱, 결함 분류, 동적 마스크 확인 등 다양한 검사 프로세스를 수행합니다. 이를 통해 사용자는 기존 방식보다 강력한 다양한 전문 결함 분석 (specialized defect analysis) 기술을 구현할 수 있습니다. 또한 M6100UV는 여러 개의 장치 크기 마스크, 다색 마스크, 이진 및 회색 스케일 마스크, 패턴 웨이퍼 등 다양한 마스크 유형을 지원합니다. 이 검사 도구에는 고급 신호 처리 (advanced signal processing) 및 완벽한 결함 분석을 위한 자동 마스크 검증 알고리즘이 있습니다. 독점 코드 스캐닝 (scanning) 기술로 구동되며, 미세한 결함을 높은 정확도로 감지, 비교, 분류할 수 있습니다. NANOMETRICS M6100UV 에는 고급 사용자 인터페이스 (Advanced User Interface) 가 장착되어 있어 작업 (Job) 을 손쉽게 구성하고 모니터링할 수 있으며, 정확한 표시기로 종합적인 시각적 보고서에 액세스할 수 있습니다. 결국, M6100UV 는 고급 마스크 및 웨이퍼 (wafer) 검사 자산으로, 최대 수준의 시야로 빠르고 정확한 이미지를 제공합니다. 이 제품은 일련의 특수 기능 (Special Features) 과 알고리즘 (Algorithm) 을 갖추고 있어 포괄적인 결함 분석을 매우 정확하게 실행할 수 있습니다. 이 모델은 다양한 검사 어플리케이션에 적합하며, 결함의 감지, 비교, 분류를 위해 완벽하고 안정적인 솔루션을 제공합니다.