판매용 중고 NANOMETRICS Caliper Mosaic #9383354

NANOMETRICS Caliper Mosaic는 고급 검사 기능 및 사용성에 대한 업계 벤치 마크를 설정하는 고급 협업 기반 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 이 시스템은 결함 검사 (Defect Inspection) 와 검토 (Review) 에서 오염 검사 (Contamination Inspection) 및 최종 원격 중심 뷰 (Wafer and Mask) 에 이르기까지 다양한 응용 분야에 적응할 수 있도록 설계되었습니다. 캘리퍼 모자이크 (Caliper Mosaic) 장치의 기능을 사용하면 직관적인 사용자 인터페이스를 통해 운영 수준의 패턴 인식 (Pattern Recognition) 기능을 쉽게 설정하여 설정 및 유지 관리 시간을 줄일 수 있습니다. NANOMETRICS Caliper Mosaic 기계의 주요 구성 요소는 고해상도 CCD (charge-coupled device) 카메라, 이동식 광학 박스 및 소형 스캐닝 스테이지로 구성됩니다. 강력한 CCD 카메라를 사용하면 얇은 TFT (Film Field Effect Transistor) 웨이퍼, 에피 택시 웨이퍼 및 다양한 유형의 포토 마스크를 검사 할 수 있습니다. 저조도 카메라 설계를 통해 모든 조명 조건에서 고품질 검사를 수행 할 수 있습니다. 한편, 고해상도 (Optic) 는 결함 및 기타 기능을 가장 정확하게 감지하는 데 필요한 정밀도를 제공합니다. 이 도구는 또한 새로 개발 된 '듀얼 빔 (Dual-Beam)' 레이저를 사용하여 마스크 및 웨이퍼 패턴의 가장자리를 빠르고 정확하게 스캔하고 검사하는 뛰어난 패턴 일치 성능을 제공합니다. 레이저를 사용하면 에셋이 임계 치수 (CD) 및 경계 치수 (NCD) 샘플을 모두 빠르고 정확하게 검사 할 수 있습니다. 또한, '듀얼 빔 (Dual-Beam)' 레이저의 작은 빔 치수는 밀도 높은 패턴에 가장 빠른 패턴 매칭을 가능하게하며, 빠르게 움직이는 패턴을 캡처하는 데 가장 적합합니다. 캘리퍼 모자이크 (Caliper Mosaic) 모델은 또한 미세하게 튜닝 된 결함 분류 라이브러리 (Defect Classification Library) 를 특징으로하며, 잘못된 경보를 줄이는 데 도움이되며 사용자에게 문제 영역에 대한 철저한 평가를 제공하는 포스트 프로세스 기능을 완벽하게 보완합니다. 이를 통해 사용자는 검사 결과, 작은 결함 인식, 더 큰 결함 분석 등을 더욱 효과적으로 제어할 수 있습니다. NANOMETRICS Caliper Mosaic는 올인원, 효율적이고 안정적인 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 또한 필수 패턴 일치 (pattern matching) 기능, 결함 분류 (defect classification), 포스트 프로세스 (post-process) 기능 외에도 정확하고 정교한 검사 결과를 사용자에게 제공합니다. 이 고급 도구는 사용 편의성과 사용자 친화적인 인터페이스를 제공하면서 모든 마스크 (mask) 및 웨이퍼 (wafer) 검사 요구를 충족하도록 설계되었습니다.