판매용 중고 NANOMETRICS AFT 210 #9083845

나노 메트릭 AFT 210 (NANOMETRICS AFT 210) 은 고급 웨이퍼 및 마스크 검사 장비로, 제조 과정에서 결함을 감지하고 측정하도록 설계되었습니다. 이 시스템은 작업 영역이 넓고 로컬 제어 컴퓨터 (local controlling computer) 가 있어서 반도체 장치 제작에 이상적입니다. AFT 210에는 한 번에 최대 8 개의 마스크 레벨을 측정 할 수있는 고급 멀티 포인트 툴이 있습니다. 각 마스크 레벨은 서로 다른 검사 매개변수에 맞게 조정할 수 있습니다. 이것 은 작은 오염 물질 에서 커다란 표면 불규칙성 에 이르기 까지, 매우 다양 한 결함 을 탐지 할 수 있는 능력 을 이 장치 에 제공 한다. "깨어라!" NANOMETRICS AFT 210은 또한 레벨 (at-level) 광학 기계를 사용하여 잘못된 양성의 양을 줄입니다. 이 도구는 마스크 이미지와 샘플 웨이퍼 (wafer) 를 분석할 수 있습니다. 또한, 자산은 검사 프로세스 상태에 대한 실시간 데이터 (real-time data on the status of the inspection process) 를 제공하여 운영자가 성능을 보다 쉽게 모니터링할 수 있습니다. 수집할 수 있는 데이터 양을 극대화하기 위해 AFT 210 의 검사 모델에는 자동화된 3D 이미징 장비가 포함되어 있습니다. 이 시스템은 검사 프로세스가 더 정확하고 더 나은 결과를 얻을 수 있습니다. 또한, 3D 이미징 장치 (3D Imaging Unit) 를 사용하면 기계가 결함을 극도로 자세히 감지하여 연산자가 결함을 더 잘 식별하고 측정 할 수 있습니다. NANOMETRICS AFT 210에는 자동 결함 검토 도구도 있습니다. 이 에셋을 통해 운영자는 마스크 검사 (mask inspection) 에서 결함 이미지를 신속하게 찾고 검토할 수 있습니다. 또한 검토 모델 (Review model) 은 여러 웨이퍼의 결과를 비교할 수 있으므로 발생할 수 있는 프로세스 불일치를 신속하게 감지할 수 있습니다. AFT 210은 전체적으로 매우 정확하고 강력한 웨이퍼 및 마스크 검사 장비입니다. 마스크 (Mask) 와 웨이퍼 (Wafer) 를 매우 자세히 검사하여 가장 작은 결함까지도 감지 할 수 있습니다. 이 시스템은 검사 프로세스를 실시간으로 추적하고 자동화된 결함 검토 (automated defect review) 를 수행할 수도 있습니다. 이를 통해 NANOMETRICS AFT 210은 모든 반도체 제작 과정에서 품질 제어를 보장하는 이상적인 도구입니다.