판매용 중고 NANOMETRICS 8000XSE #9389858

NANOMETRICS 8000XSE Mask and Wafer Inspection Equipment는 반도체 마스크 및 웨이퍼의 검사 및 분석을 위해 설계된 비용 효율적이고 정확도가 높은 플랫폼입니다. 최첨단 스펙트럼 도메인 이미징 (spectral-domain imaging) 기술이 적용되었으며, 이전에는 훨씬 더 비싼 시스템에서만 사용할 수있었습니다. 따라서 마스크 및 웨이퍼 표면의 고해상도, 실시간 이미지 처리 (예: 입자, 스크래치, 구조적 이상) 가 가능합니다. NANOMETRICS 8000 XSE는 운영 및 R&D 요구를 모두 충족하도록 설계되었습니다. 이 제품은 빠르고, 분석하고, 보고하기 쉬운 강력한 소프트웨어를 갖추고 있습니다. 또한 고급 이미지 수정 기능 (Advanced Image Correction Features) 을 제공하여 검사 프로세스 전반에 걸쳐 조명 불규칙성 또는 기타 이상에도 불구하고 이미지를 정확하게 분석 할 수 있습니다. 8000XSE는 마스크 및 웨이퍼 표면을 동시에 스캔 할 수있는 2 레일 구성을 특징으로합니다. 두 세트의 진공 척 (마스크 용) 과 하나 (웨이퍼 용) 는 이미지가 정확하게 정렬되어 마스크 및 웨이퍼 조건을 정확하게 비교할 수 있도록 합니다. 이 시스템의 광 장치 (optical unit) 에는 세 파장에서 물체 표면을 비추는 편광 빔 스캐너 (polarized beam scanner) 가 포함되어 있습니다. 이미징에 사용되는 두 개의 panchromatic 검출기, VGA 및 CCD가 있습니다. 각 검출기는 서로 다른 해상도를 제공하며, 이를 조합하여 최고 해상도의 이미지를 제공합니다. 기계가 GPU 코프로세서와 통합된 FPGA 기반 이미지 프로세서 (FPGA 기반 이미지 프로세서) 를 사용하여 높은 정확도를 보장하기 위해 사용하는 계산 및 알고리즘입니다. 이를 통해 처리 속도가 빨라지고 이미지 분석 결과가 정확해집니다. 또한 인체 공학적, 사용자 친화적 인 디자인, 가볍고 컴팩트한 폼 팩터 (form factor) 및 손쉬운 교정을 위한 사용자 교체 가능 필터 휠 (filter wheel) 을 갖추고 있습니다. 8000 XSE는 배터리를 작동하고 작고 운송 가능한 케이스로 포장합니다. 전반적으로 NANOMETRICS 8000XSE Mask 및 Wafer Inspection Asset은 생산 및 R&D 요구를 모두 충족하는 고급적이고 정확한 솔루션입니다. 이 제품은 가볍고 사용하기 쉬운 패키지로 마스크 (mask) 와 웨이퍼 (wafer) 표면의 정확한 실시간 이미지를 제공할 수 있습니다.