판매용 중고 NANOMETRICS 8000XSE #9230881

나노 메트릭 (NANOMETRICS) 8000XSE는 차세대 마스크 및 웨이퍼 검사 장비로, 생산 및 연구/개발 어플리케이션에서 뛰어난 성능을 제공합니다. NANOMETRICS 8000 XSE 시스템은 고해상도 이미징, 고급 패턴 인식, 정교한 소프트웨어 도구를 결합하여 종합적인 웨이퍼 및 마스크 검사를 지원합니다. 이 장치는 특허받은 광학 이미징 기술을 활용하여 이미지 해상도를 크게 높입니다. 이 기술을 통해 기계는 웨이퍼와 마스크 모두에서 12nm 아래로 결함 기능을 감지 할 수 있습니다. 이를 통해 이중 패턴화 (double patterning) 와 같은 저소음 리소그래피 프로세스와 관련된 위험을 파악하고 최소화할 수 있으며 프로세스 관련 효과 (process-related and line-edge effects) 도 확인할 수 있습니다. 8000XSE는 기존 웨이퍼 제조 생산 라인에 원활하게 통합될 수 있으며, 자동 노출 시스템, 도량형 시스템, 결함 검토 시스템 등 다양한 유형의 마스크/웨이퍼 검사 도구를 실행할 수 있습니다. 즉, 높은 처리 (Throughput) 모드를 통해 생산성을 높이고 더 빠른 주기를 제공하는 동시에 정확한 측정치를 제공합니다. 공구는 생산 환경에서 작동하도록 설계되었으므로, 작동 중에 먼지, 진동, 웨이퍼 손상 (damage of wafer) 을 방지하는 고급 환경 제어가 장착되어 있습니다. 자산의 고급 (Advanced) 패턴 인식 (Pattern Recognition) 기능을 통해 기존 시스템에서 볼 수 없는 작은 결함을 정확하게 인식할 수 있습니다. 이는 패턴 관련 (pattern-related) 및 프로세스 관련 결함 (process-related defects) 을 모두 감지하는 데 매우 유익하며, 이는 기존 검사 모델에서 식별하기 어려울 수 있습니다. 8000 XSE 는 신뢰할 수 있는 이미징 기술과 고급 패턴 인식 (pattern recognition) 기능과 더불어, 수동 검사 (manual inspection) 및 관련 비용을 줄일 수 있도록 설계된 정교한 소프트웨어 제품군도 함께 제공합니다. 이 소프트웨어 제품군은 이미지 비교, 결함 분류, 분석, 데이터 저장, 검색 등의 작업을 처리할 수 있습니다. 소프트웨어 툴은 사용자 친화적으로 설계되었으며, 엔지니어가 프로세스 문제와 결함을 쉽게 발견, 해결할 수 있도록 합니다. 나노 메트릭 (NANOMETRICS) 8000XSE는 생산 및 연구 및 개발 시장 모두에 적합한 고급 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 첨단 광학 이미징 (Optical Imaging) 기술과 정교한 소프트웨어 툴을 통해 모든 검사 작업에 매력적인 선택이 가능합니다.