판매용 중고 NANOMETRICS 210 #9160092
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ID: 9160092
Thin film thickness measurement system, 4"
Range of thicknesses: 100 to 500,000 angstroms
Spot size:
50 um with 5x objective
25 um with 10x objective
6.5 um with 40x objective
Olympus M10x and M40x objective
Optional objectives are Olympus M5X and M100X
Film types:
Oxide on silicon
Nitride on silicon
Negative resist on silicon
Polysilicon on oxide
Negative resist on oxide
Nitride on oxide
Polyimide on silicon
Positive resist on silicon
Positive resist on oxide
Reflectance mode
Thick films reproducibility: 5A ± 5% depend
Typical measurement time: 2.5 seconds.
NANOMETRICS 210 Mask & Wafer Inspection Equipment는 반도체 및 기타 마이크로 전자 장치 제작 프로세스의 진행 상황을 검토하기위한 혁신적인 자동 솔루션입니다. 업계 최고의 옵틱, 자동화된 모션 스테이지, 직관적인 소프트웨어 (210) 를 통해 사용자는 제품에 대한 매우 상세한 그림을 제공하여 정확성을 보장하고 신속한 의사 결정을 용이하게 할 수 있습니다. NANOMETRICS 210에는 다양한 도구와 검사 기능이 있으며, 모두 NANOMETRICS 선두, 매우 정확한 광학 시스템이 지원합니다. 이 시스템은 마스크 또는 웨이퍼 (예: 패턴 크기, 모양, 선 너비 및 간격, 기능 없음, 존재 여부, 위치 등) 의 특징에서 작은 변형을 신속하게 감지하고 측정할 수 있습니다. 또한 210은 색상, 대비, 형상 연속성, 정밀도 등과 같은 다른 특성을 검사할 수 있습니다. NANOMETRICS 210의 다양한 해상도 (Resolution) 및 교정 (Calibration) 옵션을 통해 사용자는 웨이퍼를 엄청나게 포괄적으로 살펴볼 수 있습니다. 이 장치는 또한 사용자의 검사 프로세스를 단순화하도록 설계된 강력한 소프트웨어 제품군을 제공합니다 (영문). 프로젝트 시작부터 끝까지, 210은 용도에 맞게 설계된 사용자 인터페이스를 통해 직관적인 작업을 수행할 수 있습니다. 기판 처리, 열 안정화 (thermal stabilization), 자동 스캔 (automated scan) 과 같은 자동화된 기능을 통해 사용자는 프로젝트를 완벽하게 제어할 수 있습니다. 또한, NANOMETRICS 210 소프트웨어는 그래프 (graphing) 및 추적 (trace) 기능과 같은 분석 도구를 제공하여 사용자가 마이크로 전자 장치의 상태를 정확하게 평가할 수 있습니다. 210은 테스트 프로세스를 촉진하는 한편, 전례없는 정확성과 신뢰성을 제공하도록 설계되었습니다. 업계 최고의 Optic 및 Motion Stage는 매우 정확한 검사 기능을 제공하며, 직관적인 소프트웨어를 통해 사용자는 프로젝트를 처음부터 끝까지 효율적으로 관리할 수 있습니다. NANOMETRICS 210은 마이크로 일렉트로닉스 제작 산업의 모든 사람에게 반드시 필요한 기계입니다.
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