판매용 중고 NANOMETRICS 200 #9199415

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ID: 9199415
Film thickness measurement system NanoSpec AFT 7001-092 Ultra spec III Controller 7201-1045 with remote keypad 0156-000 Printer Light source Objectives.
NANOMETRICS 200은 고급 이미지 캡처, 분석 및 시각화 기능을 제공하는 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 스캐닝 (Scanning) 기술은 마스크, 웨이퍼에 고해상도 이미지를 캡처할 수 있으며, 이례적인 수준의 디테일을 제공합니다. 시스템의 물리적 구성 요소는 광원, 스캔 헤드, 렌즈, 전자 장치 및 컨트롤러로 구성됩니다. 광학 구성 요소는 광학 필터, 초점 오브젝티브 렌즈, 줌 렌즈 및 초점 광학으로 구성됩니다. 광원은 웨이퍼 또는 마스크의 이미지 표본에 UV, 흰색 및 IR 조명을 제공합니다. 스캔 헤드 (scan head) 는 광원과 렌즈가 생성하는 이미지 신호를 캡처하도록 설계되었습니다. "렌즈 '는 영상 광학 및" 필터' 와 결합 하여 분석 할 매우 상세 한 "이미지 '를 만드는 데 사용 된다. 기계의 전자 구성 요소는 이미지를 자동으로 처리하는 데 사용됩니다. 고급 이미지 인식, 개체 수 지정, 피쳐 인식 및 마스크 또는 웨이퍼의 모든 기능을 감지하고 식별할 수 있는 기울기/회전 (Tilt & Rotate) 알고리즘이 특징입니다. 또한, 결과의 분석, 해석을 자동화할 수 있는 도구가 있어 여러 면에서 이미지를 보다 쉽게 비교할 수 있습니다 (영문). 200 은 또한 다양한 각도와 확대/축소 레벨에서 상세한 이미지를 볼 수 있는 고급 이미지 시각화 (advanced image visualization) 기능을 제공합니다. 이를 통해 관심 분야를 쉽게 식별하고 분석 할 수 있습니다. 도구의 GUI (Graphical User Interface) 를 사용하면 모든 기능에 쉽게 액세스하고 제어할 수 있습니다. 전반적으로 NANOMETRICS 200은 포괄적인 마스크 및 웨이퍼 검사 자산으로, 사용이 간편한 간편한 간편한 패키지로, 고급 이미지 캡처, 분석, 시각화 기능을 제공합니다. 직관적인 인터페이스와 결합된 강력한 최적화/분석 툴을 통해 복잡한 마스크 (mask) 와 웨이퍼 (wafer) 구조의 상세한 이미지 데이터를 신속하게 검토하고 비교할 수 있습니다.
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