판매용 중고 MICRO-METRIC MicroLine ML420 #9266732
URL이 복사되었습니다!
MICRO-METRIC MicroLine ML420 Mask & Wafer Inspection 장비는 점점 더 엄격한 반도체 제작 프로세스 요구 사항을 충족하도록 설계되었습니다. 이 제품은 고급 광학 기술과 도량형 기술을 활용하여 반도체 장치의 무결성을 분석합니다. ML420은 최대 2 미크론의 깊이에서 고밀도, 다중 레벨 패턴, 회로 구조, 서브 미크론 기능 및 결함 형성을 검사 할 수 있습니다. 이 시스템은 최대 4K 스캔/초의 속도로 최대 250mm 웨이퍼를 스캔하고 검사할 수 있는 자동화된 단계를 갖추고 있습니다. 또한 ML420 에는 선택된 관심/결함 영역이 강조되어 검사 중에 웨이퍼를 회전시킬 수 있는 고유한 스핀 스캔 (Spin Scan) 기능이 장착되어 있습니다. 이를 통해 각 기능에 대해 자세히 살펴볼 수 있습니다. 또한, 이 장치에는 자동 FPV (Focus Per View) 모듈이 포함되어 있어 이미지 필드를 조정하고 스캐닝하여 웨이퍼 표면 지형을 보완하여 보다 정밀하고 정확합니다. 또한 ML420 에는 통계 기준에 따라 패턴 및 결함을 감지하는 강력한 LPP (Light Path Process) 알고리즘이 있어 사용자가 직접 데이터를 검증할 필요가 없습니다. ML420에는 내장 IQE (Image Quality Enhancement) 알고리즘도 포함되어 있습니다. 이러한 알고리즘은 획득한 이미지를 자동으로 향상시켜 게인 (gain) 및 오프셋 (offset) 값을 수동으로 조정할 필요가 없으므로 프로세스 반복성이 향상됩니다. 이 기계는 강력한 최적화 기능과 구성 가능한 운영 매개변수로 인해 Resist Imaging, Sub- Pixel Edge Detection, Cross-Line Measurements Inspection 등 다양한 응용 프로그램에 사용할 수도 있습니다. 또한 ML420 에는 통합 결함 관리 툴이 포함되어 있으며 결함 격리, 특성, 감지, 분류, 플래깅을 위한 자동화된 워크플로우를 제공합니다. 이는 검사 시간을 줄이고 심각한 결함이 없음을 보장하는 데 도움이됩니다. 또한 이 자산은 데이터 로깅 (Data Logging), 보고 (Reporting) 및 원격 진단 (Remote Diagnostics) 기능을 통해 사용자가 실시간으로 문제를 해결할 수 있습니다. MicroLine ML420 Mask & Wafer Inspection 모델의 고급 기능을 사용하면 반도체 장치를 위한 강력한 솔루션이 될 수 있습니다. 고밀도, 서브 미크론 구조 및 복잡한 회로를 검사하기 위해 안정적이고 효과적인 결과를 제공하므로, 수율 향상, 프로세스 제어 향상 등의 효과를 얻을 수 있습니다. 이를 통해 ML420 은 고급 광 검사 솔루션을 찾는 기업을 위한 최고의 선택이 됩니다.
아직 리뷰가 없습니다