판매용 중고 METRICON 2010 #9246090

ID: 9246090
Prism coupler Reflective index: Single / Dual thin film layers Measurement accuracy and resolution: Index accuracy: ± .001 Thickness accuracy: ± (0.5% + 50 A) Index resolution: ± .0005 Thickness resolution: ±0.3% Refractive index measuring range: Films and bulk materials with refractive index: 2.45 Films with index up to 2.70 (Depending on film thickness) Typical measurement time: 10-25 Seconds with standard table 15-75 Seconds with high resolution table Index measurement of bulk materials / thick films: Accuracy: ± .001 Resolution: ± .0005 Bulk measurement: 5-20 Seconds Operating wavelength: Low power: 0.5mW He-Ne Laser: 632.8nm CDRH / BRH Class II Substrate materials: Silicon GaAs Glass Quartz Sapphire GGG Lithium niobate Substrate size: Up to 150 mm² Prism types / Index range: 200-P-1 / <1.80 200-P-2 / 1.70-2.45 200-P-3 / <2.10 200-P-4 / <2.02 Rotary table step size: 3.0 or 1.5 min High resolution tables: 0.9/0.45 or 0.6/0.3 min No-charge option.
METRICON 2010은 반도체 검사에서 가장 높은 표준을 충족하도록 설계된 최첨단 자동 Mask 및 Wafer Inspection 장비입니다. 이 시스템은 고급 패턴 매칭 (pattern-matching) 및 광학 현미경 (optical microscopy) 기술을 사용하여 마스크 결함과 웨이퍼 오염을 최고의 정확도로 발견하고 분류합니다. 고급 알고리즘을 사용하여 2010은 매우 정확한 해상도로 웨이퍼 (wafer) 를 스캔하여 결함을 1/100 미크론 (micron) 까지 감지 할 수 있습니다. 메트리콘 2010 (METRICON 2010) 이 검사된 웨이퍼에서 가장 작은 결함까지도 정확하게 식별 할 수있는 독점 조명 솔루션도 제공됩니다. 이 장치는 12MP 카메라 기술 덕분에 0.2um 이상의 입자와 서브미크론 결함 (최대 0.5um) 에 효과적인 탐지율을 제공합니다. 2010 년은 전체 웨이퍼 (wafer) 에 대한 집중력을 제공하는 것 외에도 업계 표준 청소실 (cleanroom) 구성과 고급 장애 격리 기능 (fault isolation features) 을 준수하여 결함 영역을 신속하게 파악하고 문제를 해결할 수 있습니다. 이를 통해 공정 효율성 (process efficiency) 증가와 함께 높은 수준의 On-Spec 부품을 얻을 수 있습니다. METRICON 2010의 다른 기능으로는 전체 마스크 검사를위한 고속 스캔 (High Speed Scanning) 및 결함 위치를 시각적으로 나타낼 수있는 직관적인 GUI가 있습니다. 크기, 모양, 위치, 방향과 같은 결함 속성을 표시하면 결함 분류에서 더 높은 수준의 정확도가 추가됩니다. 2010 머신의 자동화되고 다기능 (multi-functional) 은 높은 처리량 생산에 이상적인 선택으로, 마스크 및 웨이퍼 검사 프로세스 전반에 걸쳐 비용 효율성, 효율성 향상을 제공합니다. 이 고급 도구는 오늘날 급속히 성장하는 반도체 산업의 과제를 해결할 수 있도록 탁월한 정확성과 성능을 제공하도록 설계되었습니다 (영문).
아직 리뷰가 없습니다