판매용 중고 METRICON 2010/M #80299

METRICON 2010/M Mask and Wafer Inspection 장비는 집적 회로의 중요한 생산에 사용되는 자동화된 고정밀 광학 검사 및 측정 도구입니다. 이 시스템은 마스크 (Mask) 및 웨이퍼 (Wafer) 재료 검사 및 측정에 사용되는 통합 장치에 3 개의 특수 기기를 결합합니다. 이를 통해 자동화된 시각화, 유연한 테스트 및 pass/fail 분류를 통해 웨이퍼 기능을 평가할 수 있습니다. METRICON 2010/M은 Wafer 결함 검사를위한 XY 단계와 마스크 모양 및 윤곽선을 측정하기위한 2 개의 광학 기기로 구성됩니다. XY 스테이지는 2 차원 스캐닝 플랫폼을 구동하여 기계가 마스크 또는 웨이퍼의 상단면 (top-view) 및 횡단면 (cross-section) 이미지를 모두 캡처할 수 있습니다. 광학 기기에는 산란계가 포함되며, 이는 마스크의 광학 산란 특성과 주사 전자 현미경 (SEM) 을 측정하는 데 사용됩니다. SEM은 마스크의 구조와 특성을 분석하는 데 사용되며, 3D 이미징에 적합한 고해상도 (high-resolution) 이미지를 제공합니다. 이 두 가지 도구 외에도 METRICON 2010/M 도구에는 마스크 또는 웨이퍼의 높이와 모양을 측정하는 데 사용되는 3D 스테이지가 포함되어 있습니다. 이 작업은 레이저 빔 (laser beam) 을 사용하여 수행됩니다. 레이저 빔은 서피스를 스캔하고 해당 객체의 3D 이미지를 구성하는 데 사용됩니다. 마지막으로, METRICON 2010/M 에셋에는 여러 소프트웨어 구성 요소가 포함되어 있는데, 이 구성 요소는 분석 데이터를 수집하는 워크플로우를 자동화하는 데 사용됩니다. 이 소프트웨어에는 통계 모델 (통계 모델) 과 데이터 (데이터 분석) 를 신속하게 분석할 수 있는 데이터 마이닝 모듈 (data mining module) 이 포함되어 있습니다. METRICON 2010/M 모델은 마스크 및 웨이퍼 검사를위한 강력한 도구로서, 피쳐를 평가할 때 높은 정밀도와 정확도를 제공합니다. 수작업 검사 방식과 비교해 볼 때, 이러한 툴을 활용하면, 테스트 주기를 단축하고, 비용 효율성을 향상시킬 수 있습니다. 이 장비는 품질 관리 (Quality Control) 및 프로세스 모니터링 (Process Monitoring) 을 위해 집적 회로 생산에 선도적인 반도체 회사에서 사용합니다.