판매용 중고 LEICA / VISTEC MIS 200 #9287263
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LEICA/VISTEC MIS 200은 LEICA 시리즈 검사 도구의 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 이 시스템은 자동 검사, 광학 가변 마이크로 이미징 (optical variable micro imaging) 및 결함 이동 창 검사의 조합을 제공하여 마스크와 웨이퍼의 결함을 신속하게 식별합니다. 이 장치는 고해상도 (High Resolution), 다중 확대 수준 (Multiple Magnization Level), 빠른 재구성 시간 (Restonstruction Time) 을 제공하여 결함 및 잠재적 문제를 신속하게 파악할 수 있습니다. 이 기계는 독특한 라이트 시트 디자인으로 일관되지 않은 스트로브 조명 (strobe illumination) 을 사용하여 마스크 또는 웨이퍼 전체에 균일 한 조명을 보장합니다. 이를 통해 모든 점이 균일하고, 동일하게 조명되고, 높은 정확도와 결과를 얻을 수 있습니다. LEICA MIS 200은 또한 실시간 비디오 검사, 라인 스캔, 백사이드 도량형과 같은 다양한 다차원 및 다중 레벨 이미징 모드를 허용합니다. 이러한 기능을 사용함으로써 사용자는 마스크 또는 웨이퍼 (예: 접촉 구멍, 선 정의, 선 너비, 선 간 공간) 의 복잡한 피쳐를 신속하게 분석할 수 있습니다. VISTEC MIS 200 의 자동 분석 툴 (Automated Analysis Tools) 을 사용하면 결함을 자동으로 식별하고 분류할 수 있으며, 이를 통해 사용자는 가능한 원인을 이해할 수 있습니다. 또한, 이 도구는 선 너비와 공백, 깊이, 결함 원형을 자동으로 측정하여 보다 정확한 결과를 얻을 수 있습니다. 게다가, "에셋 '은" 마스크' 와 "웨이퍼 '를 상세 히 비교 하여 둘 의 차이 를 판별 할 수 있다. 마지막으로, 이 모델은 또한 강력한 결함 진단 응용 프로그램을 제공하며, 이 응용 프로그램은 패턴과 이상을 감지하고 분류할 수 있습니다. 이 도구는 매우 유용한 도구입니다. 즉, 사용자가 '운영 프로세스' 를 방해할 수 있는 '구조적 결함' 및 기타 문제를 파악하는 데 도움이 될 수 있기 때문입니다. 또한 MIS 200은 스펙트럼 광학 도량형 장비 (Spectral Optical Metrology Equipment) 를 제공하며, 이는 마스크 또는 웨이퍼의 광학 특성에서 선 정의 및 변동과 같은 기능을 측정 할 수 있습니다. 전반적으로 LEICA/VISTEC MIS 200은 매우 강력한 Mask and Wafer Inspection System으로, 결함을위한 마스크와 웨이퍼를 빠르고 정확하게 분석 할 수 있습니다. 이 장치는 자동 검사, 광학 가변 마이크로 이미징 (optical variable micro imaging), 결함 이동 창 검사, 다양한 차원 및 다중 레벨 이미징 모드, 강력한 결함 진단 응용 프로그램의 조합을 제공합니다. 따라서, 기계는 마스크와 웨이퍼의 결함 및 잠재적 문제를 빠르고 정확하게 파악하는 데 매우 유용합니다.
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