판매용 중고 LEICA / VISTEC MIS 200 #9266272

LEICA/VISTEC MIS 200 마스크 및 웨이퍼 검사 장비는 반도체 장치 구조의 결함을 감지하고 분석하기 위해 설계된 고성능 자동 광검사 시스템입니다. 이 장치는 혁신적인 최신 이미징 (optical) 기술과 정밀 동작 제어 (precision motion control) 를 활용하여 모든 프로세스 형상에 대해 최고의 결함 감지 및 정확성을 제공합니다. LEICA MIS 200은 동적 이미지 처리를 통해 기능 및 패턴 인식에 대한 심층 분석을 제공합니다. 이 기계는 향상된 이미징 시스템, 빔 조작 시스템, 자동 도량형 (Automated Metrology), 고급 결함 매핑을 위한 주변 장치 (Peripheral Device) 등 다양한 확장 옵션을 지원하는 모듈식 설계를 갖추고 있습니다. 또한 선택 가능한 조명 파장, 확대/축소 및 기타 도구 설정을 제공하는 사용자 정의 소프트웨어 패키지도 포함되어 있습니다. 검사 자산에는 특허를 받은 검사 단계가 포함되어 있는데, 이는 정확한 모션 제어와 높은 정확도의 결함 분리 (defect separation) 기능을 제공합니다. 이 모델은 단일 뷰 (field of view) 에서 여러 장치를 캡처하여 처리량을 극대화하고 연산자 시간을 최소화할 수 있는 넓은 시야 (field of view) 를 제공합니다. 즉, 고속 픽셀 이동을 활용하여 동작 흐림 (motion blur) 을 최소화하여 전체 시야에서 심각한 결함을 정확하게 감지할 수 있습니다. VISTEC MIS 200에는 최고의 결함 감지 기능을 제공하는 고급 조명 장비가 포함되어 있습니다. 독보적인 동적 이미지 프로세싱과 결합하여, 탁월한 결함 특성 및 분류를 제공합니다. 즉, 점진적인 강도 검사 (intensity scanning), 패턴 결함 감지 (detection of pattern defects), 임의의 결함 (random defects) 을 활용하여 장치 특성을 더 잘 파악할 수 있습니다. 이 시스템은 또한 강력한 결함 분류 엔진 (Failect Classification Engine) 을 제공하여 추가 검토 및 분석을 위해 결함을 자동으로 그룹화하고 분류합니다. 이 자동화된 프로세스는 결함 가시성을 높이고 장치 처리량과 정확도를 높입니다. 또한, 직관적인 사용자 인터페이스를 통해 프로그램 설정과 매개변수를 쉽게 액세스하고 수정할 수 있습니다. LEICA 검사기는 소형 제작 실험실에서 대용량 생산 설정에 이르는 반도체 장치 제조업체에 적합합니다. 이 툴은 수동 (manual) 프로세스와 자동 (automated) 프로세스 모두에서 안정적인 작동과 향상된 정확성을 보장합니다. 첨단 이미징 (Advanced Imaging) 과 정확한 모션 제어 (Motion Control) 를 통해 장치 구조 결함을 감지하고 분석하는 효율적인 솔루션을 제공합니다.