판매용 중고 LEICA / VISTEC MIS 200 #9234197

LEICA/VISTEC MIS 200은 반도체 생산 응용 분야를 위해 설계된 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. '마스크, 웨이퍼 (wafer)' 및 기타 관련 자료의 각 수준을 정확하게 검사하고 필요한 시간과 노력을 최소화할 수 있는 고성능 시스템입니다. 이 장치는 여러 가지 구성 요소로 구성되어 있으며, 이 구성 요소는 효율적이고 정확한 검사를 위해 함께 작동합니다. LEICA MIS 200의 주요 구성 요소에는 고해상도 초점 이미징 모듈, 편광 대비 모듈, 총 반사율 모듈, 다중 시각 검사 모듈, 샘플 청소 검사 모듈, 정렬 스테이션 및 소프트웨어 패키지가 포함됩니다. 이 기계의 이미징 모듈은 고급 (Advanced) 고품질 (High-Quality) 이미징 기술을 탑재하여 마스크와 웨이퍼를 정확하게 검사할 수 있습니다. 이 모듈은 매우 선명하게 이미지를 스캔하고 세부사항을 해결합니다. 즉, 사용자가 스캔한 마스크와 웨이퍼 (wafer) 에서 가장 작은 불완전성까지 정확하게 파악하고 평가할 수 있습니다. 편광 대비 (polarization contrast) 모듈을 사용하면 노출되지 않거나 노출되지 않은 반점 없이 패턴 표면에서 편광된 광원을 검사 할 수 있습니다. 또한, 표준 검사 방법에 의해 일반적으로 누락되는 결함을 감지할 수 있습니다. 총 반사율 모듈은 마스크 및 웨이퍼에 대한 빠르고 정량적인 반사율 매핑을 위해 설계되었습니다. 이 모듈은 반사율 (refectance) 대 필름 두께를 측정하여 사용자가 인접한 레이어 간의 작은 두께 차이를 감지할 수 있습니다. 다중 시각적 검사 (Multiple Visual Inspection) 모듈은 강력한 광학 툴로서, 사용자에게 결함에 대한 향상된 뷰를 제공합니다. 이 모듈을 사용하면 스캔한 마스크와 웨이퍼의 표면 결함을 식별할 수 있습니다. 또한, 이 모듈은 또한 스캔 된 마스크와 웨이퍼 사이에 손상된 전기 연결을 식별 할 수 있습니다. 이 도구의 샘플 (sample) 청결 검사 모듈을 사용하면 검사 전에 해당 샘플의 청결 여부를 정확하게 검사할 수 있습니다. 이 모듈은 먼지, 유기 파편 (organic debris) 과 같은 오염 물질을 감지하여 사용자가 추가 검사 전에 오염 물질을 제거 할 수 있습니다. 자산의 정렬 스테이션 (Alignment Station) 에는 검사 된 마스크와 웨이퍼를 정확하게 정렬하는 레이저 기술이 장착되어 있습니다. 이 안정적인 정렬은 마스크 및 웨이퍼의 모든 스캔이 정확하고 일관성을 보장합니다. 마지막으로 VISTEC MIS 200에는 전체 검사 프로세스를 자동화하는 소프트웨어 패키지도 포함되어 있습니다. 이 소프트웨어에는 이미지 처리 (image processing) 및 분석 도구 (analysis tools) 와 직관적인 사용자 인터페이스 (user interface) 가 포함되어 있어 검사 설정을 쉽게 모니터링하고 구성할 수 있습니다. 전반적으로 MIS 200 (MIS 200) 은 고급 마스크 및 웨이퍼 검사 모델로, 사용자가 마스크와 웨이퍼에 결함이 있는지 빠르고 정확하게 검사 할 수 있습니다. 반도체 생산 응용 분야에 이상적인 솔루션입니다.